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更推薦為50～60sccm。本發(fā)明原則上對(duì)所述加熱襯底的具體溫度沒(méi)有特別限制，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)實(shí)際情況、原料情況以及產(chǎn)品要求進(jìn)行選擇和調(diào)整，本發(fā)明為提高氧化鋅基合金的性能參數(shù)，提高氧化鋅基合金紫外探測(cè)器的性能，提高氧化鋅基合金紫外探測(cè)器的響應(yīng)度，所述加熱襯底的溫度推薦為350～1050℃，更推薦為450～950℃，更推薦為550～850℃，更推薦為650～750℃。本發(fā)明原則上對(duì)所述化學(xué)氣相沉積的過(guò)程參數(shù)沒(méi)有特別限制，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)實(shí)際情況、原料情況以及產(chǎn)品要求進(jìn)行選擇和調(diào)整，本發(fā)明為提高氧化鋅基合金的性能參數(shù)，提高氧化鋅基合金紫外探測(cè)器的性能，提高氧化鋅基合金紫外探測(cè)器...

三甲基鉛管路的載氣流速為10ml/min。步驟3)生長(zhǎng)2小時(shí)，關(guān)閉有機(jī)源，以5℃/min的速率降低溫度，**終降低到室溫，取出襯底。步驟4)將步驟3)中樣品放入真空鍍膜機(jī)中，在氣壓為，使用蒸發(fā)電流140a，將50mgau顆粒蒸鍍到樣品表面。步驟5)將步驟4)中得到的樣品通過(guò)光刻和濕法刻蝕表面的金得到叉指電極，在叉指電極上按壓in粒得到msm結(jié)構(gòu)的znpbo紫外探測(cè)器。參見(jiàn)圖1，圖1為本發(fā)明提供的氧化鋅基合金紫外探測(cè)器的結(jié)構(gòu)示意簡(jiǎn)圖。對(duì)本發(fā)明實(shí)施例1中得到的氧化鋅基合金薄膜進(jìn)行粉末x射線衍射(xrd)測(cè)試。參見(jiàn)圖2，圖2為本發(fā)明實(shí)施例1得到的氧化鋅基合金薄膜的粉末x射線衍射圖譜。從圖2中...

更推薦為50～60sccm。本發(fā)明原則上對(duì)所述加熱襯底的具體溫度沒(méi)有特別限制，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)實(shí)際情況、原料情況以及產(chǎn)品要求進(jìn)行選擇和調(diào)整，本發(fā)明為提高氧化鋅基合金的性能參數(shù)，提高氧化鋅基合金紫外探測(cè)器的性能，提高氧化鋅基合金紫外探測(cè)器的響應(yīng)度，所述加熱襯底的溫度推薦為350～1050℃，更推薦為450～950℃，更推薦為550～850℃，更推薦為650～750℃。本發(fā)明原則上對(duì)所述化學(xué)氣相沉積的過(guò)程參數(shù)沒(méi)有特別限制，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)實(shí)際情況、原料情況以及產(chǎn)品要求進(jìn)行選擇和調(diào)整，本發(fā)明為提高氧化鋅基合金的性能參數(shù)，提高氧化鋅基合金紫外探測(cè)器的性能，提高氧化鋅基合金紫外探測(cè)器...

鑄件表面光滑。3.可進(jìn)行表面處理：電鍍、噴涂、噴漆、拋光、研磨等。4.熔化與壓鑄時(shí)不吸鐵，不腐蝕壓型，不粘模。5.有很好的常溫機(jī)械性能和耐磨性。6.熔點(diǎn)低，在385℃熔化，容易壓鑄成型[1]。鑄造鋅合金分類(lèi)編輯鋅合金種類(lèi)很多，分類(lèi)方法也不盡相同，按習(xí)慣和應(yīng)用方式，大致有三種分類(lèi)方法。（1）按合金成分分類(lèi)鋅合金按成分可分為四類(lèi)：Zn一Al系、Zn一Cu系、Zn一Pb系和Zn一Pb一Al系。Zn一Al系合金一般含有少量的Cu、Mg以提度和改善耐蝕性。Zn―Cu合金一般還含有Ti，也稱Zn一Cu一Ti系合金，該合金是抗蠕變合金，有時(shí)為進(jìn)一步改善抗蠕變性能也加入少量Cr。Zn一Pb系合金一般用...

并且會(huì)殘留下強(qiáng)堿液以及強(qiáng)液，以至當(dāng)鍍上鍍層后，容易引發(fā)脫皮以及發(fā)生氣泡。三、鋅合金壓鑄件的形狀1般比較繁雜，電鍍應(yīng)當(dāng)采取擴(kuò)散能力以及籠蓋能力較好的溶液。為了避免在凹入或者掩蔽處產(chǎn)生鋅對(duì)于電位正的金屬的置換，從而使結(jié)協(xié)力不好，預(yù)鍍層更應(yīng)選擇擴(kuò)散能力以及籠蓋能力好的鍍液。四、所采取的鍍層比較好為光亮鍍層，盡可能防止拋光工序或者者減輕拋光工作量。1方面因形狀繁雜,不容易拋光,另方面也可保證鍍層厚度,確保質(zhì)量。五、第1層鍍層如果采取銅層，其厚度應(yīng)稍厚1些，由于當(dāng)銅鍍到鋅合金表面上時(shí)，銅層愈薄分散作用產(chǎn)生的愈快，因而銅的厚度至少要到達(dá)七μm或者者再厚1些。六、多層鍍鉻層是鋅合金的陰極維護(hù)鍍層，所...

并且會(huì)殘留下強(qiáng)堿液以及強(qiáng)液，以至當(dāng)鍍上鍍層后，容易引發(fā)脫皮以及發(fā)生氣泡。三、鋅合金壓鑄件的形狀1般比較繁雜，電鍍應(yīng)當(dāng)采取擴(kuò)散能力以及籠蓋能力較好的溶液。為了避免在凹入或者掩蔽處產(chǎn)生鋅對(duì)于電位正的金屬的置換，從而使結(jié)協(xié)力不好，預(yù)鍍層更應(yīng)選擇擴(kuò)散能力以及籠蓋能力好的鍍液。四、所采取的鍍層比較好為光亮鍍層，盡可能防止拋光工序或者者減輕拋光工作量。1方面因形狀繁雜,不容易拋光,另方面也可保證鍍層厚度,確保質(zhì)量。五、第1層鍍層如果采取銅層，其厚度應(yīng)稍厚1些，由于當(dāng)銅鍍到鋅合金表面上時(shí)，銅層愈薄分散作用產(chǎn)生的愈快，因而銅的厚度至少要到達(dá)七μm或者者再厚1些。六、多層鍍鉻層是鋅合金的陰極維護(hù)鍍層，所...

本實(shí)用新型涉及鋅合金壓鑄技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種鋅合金成型機(jī)的合模驅(qū)動(dòng)調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)。背景技術(shù)：壓鑄工藝就是利用機(jī)器、模具和合金等三大要素，將壓力、速度及時(shí)間統(tǒng)一的過(guò)程，用于金屬熱加工，壓力的存在是壓鑄工藝區(qū)別其他鑄造方法的主要特點(diǎn)，壓力鑄造是近代金屬加工工藝中發(fā)展較快的一種少無(wú)切削的特種鑄造方法，它是將熔融金屬在高壓高速下充填鑄型，并在高壓下結(jié)晶凝固形成鑄件的過(guò)程，由于用這種方法生產(chǎn)產(chǎn)品具有生產(chǎn)效率高，工序簡(jiǎn)單，鑄件公差等級(jí)較高，表面粗糙度好，機(jī)械強(qiáng)度大，可以省去大量的機(jī)械加工工序和設(shè)備，節(jié)約原材料等優(yōu)點(diǎn)，所以現(xiàn)已成為我國(guó)鑄造業(yè)中的一個(gè)重要組成部分。鋅合金一般都是使用壓鑄工藝生產(chǎn)而成的，在...

所述氧化鋅基合金在光吸收截止邊位置(或光吸收截止邊附近)，5nm波段范圍內(nèi)透射率下降70％～90％，更推薦下降80％～90％，更推薦下降82％～89％，更推薦下降84％～88％，具體可以為90％。本發(fā)明原則上對(duì)所述氧化鋅基合金的結(jié)構(gòu)沒(méi)有特別限制，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)實(shí)際情況、原料情況以及產(chǎn)品要求進(jìn)行選擇和調(diào)整，本發(fā)明為提高氧化鋅基合金薄膜的性能參數(shù)，更好的利于提高氧化鋅基合金紫外探測(cè)器的響應(yīng)度，所述氧化鋅基合金薄膜，即氧化鋅基合金具有單一相晶體結(jié)構(gòu)，更具體的，所述氧化鋅基合金薄膜推薦為具有單一相晶體結(jié)構(gòu)氧化鋅基合金薄膜。具體的，所述氧化鋅基合金薄膜推薦為具有單一六角相晶體結(jié)構(gòu)的氧化鋅...

圖3為本發(fā)明實(shí)施例1得到的氧化鋅基合金薄膜的紫外-可見(jiàn)光吸收光譜圖；圖4為本發(fā)明實(shí)施例1得到的氧化鋅基合金紫外探測(cè)器的光響應(yīng)特性曲線圖。具體實(shí)施方式為了進(jìn)一步了解本發(fā)明，下面結(jié)合實(shí)施例對(duì)本發(fā)明的推薦實(shí)施方案進(jìn)行描述，但是應(yīng)當(dāng)理解，這些描述只是為進(jìn)一步說(shuō)明本發(fā)明的特征和優(yōu)點(diǎn)而不是對(duì)本發(fā)明專利要求的限制。本發(fā)明所有原料，對(duì)其來(lái)源沒(méi)有特別限制，在市場(chǎng)上購(gòu)買(mǎi)的或按照本領(lǐng)域技術(shù)人員熟知的常規(guī)方法制備的即可。本發(fā)明所有原料，對(duì)其純度沒(méi)有特別限制，本發(fā)明推薦采用分析純或紫外探測(cè)器領(lǐng)域常規(guī)的純度即可。本發(fā)明提供了一種氧化鋅基合金紫外探測(cè)器，所述氧化鋅基合金紫外探測(cè)器包括襯底；復(fù)合在所述襯底上的氧化鋅基...

在一定氣壓的條件下，使用蒸發(fā)電流，將au顆粒蒸鍍到樣品表面。步驟5)將步驟4)中得到的樣品通過(guò)負(fù)膠光刻表面的金得到叉指電極，在叉指電極上按壓in粒得到msm結(jié)構(gòu)的紫外探測(cè)器。本發(fā)明上述步驟提供了一種具有陡峭的光吸收截止邊的單一相晶體結(jié)構(gòu)的氧化鋅基合金薄膜紫外探測(cè)器及其制備方法。本發(fā)明以有機(jī)鋅化合物作為鋅源，有機(jī)金屬化合物作為金屬源，在通入氧氣的條件下，金屬有機(jī)化合物在化學(xué)氣相沉積設(shè)備(mocvd)中生長(zhǎng)氧化鋅基合金薄膜層。本發(fā)明使用mocvd生長(zhǎng)設(shè)備，通過(guò)調(diào)控生長(zhǎng)條件，使制備得到的氧化鋅基合金薄膜層具有結(jié)晶質(zhì)量高，不出現(xiàn)分相，光吸收截止邊陡峭，截止邊在400nm附近等特點(diǎn)，得到了這特定...

因此可知實(shí)施例1～14中，消耗量的評(píng)價(jià)良好。沒(méi)有添加al的比較例1和添加量過(guò)小的比較例2為×評(píng)價(jià)。認(rèn)為這是由于，相對(duì)于工件，維氏硬度低。沒(méi)有添加mg的比較例4為×評(píng)價(jià)。認(rèn)為這是由于，制造工序中的鋅基合金丸粒的硬度的改善效果不充分，由此相對(duì)于工件，維氏硬度低。直徑-長(zhǎng)度比過(guò)小或過(guò)大的比較例7、8都為×評(píng)價(jià)。認(rèn)為對(duì)于工件，鋅基合金丸粒的碰撞產(chǎn)生偏差，因此作為結(jié)果，毛刺去除能力降低。<精加工品質(zhì)>任意一種類(lèi)型的鋅基合金丸粒中，以～％的范圍微量添加cu的實(shí)施例5～8及13～16，在任意一種條件下都為◎評(píng)價(jià)，暗示了通過(guò)微量添加cu而精加工品質(zhì)改善。另外，沒(méi)有添加cu的實(shí)施例1～4及9～12中，形...

參見(jiàn)圖4，圖4為本發(fā)明實(shí)施例1得到的氧化鋅基合金紫外探測(cè)器的光響應(yīng)特性曲線圖。從圖4的曲線中可以看出，制備的氧化鋅基合金紫外探測(cè)器在10v下的峰值響應(yīng)度位于峰值位于380nm附近，峰值響應(yīng)度21a/w，光響應(yīng)截止邊400nm附近，說(shuō)明制備的氧化鋅基合金紫外探測(cè)器具有高的光響應(yīng)度，比市面常見(jiàn)的紫外探測(cè)器的響應(yīng)度高出2個(gè)數(shù)量級(jí)。實(shí)施例2～5為了考察摻雜其他金屬對(duì)于薄膜的影響，除了改變摻雜金屬之外，其他條件都與實(shí)施例1一樣。編號(hào)2，3，4，5的樣品更換的摻雜金屬分別為：fe，mn，ni，co。對(duì)本發(fā)明實(shí)施例2～5制備的氧化鋅基合金薄膜樣品進(jìn)行表征，結(jié)果表明，樣品2，3，4，5均可以得到六角相...

本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)實(shí)際情況、原料情況以及產(chǎn)品要求進(jìn)行選擇和調(diào)整，本發(fā)明為進(jìn)一步提高氧化鋅基合金紫外探測(cè)器的性能，提高氧化鋅基合金紫外探測(cè)器的響應(yīng)度，所述襯底推薦包括藍(lán)寶石襯底、石英襯底和氧化鎂襯底中的一種或多種，更推薦為藍(lán)寶石襯底、石英襯底或氧化鎂襯底。本發(fā)明所述襯底的厚度推薦為100～600nm，更推薦為200～500nm，更推薦為300～400nm。本發(fā)明原則上對(duì)所述叉指電極層的具體材質(zhì)和參數(shù)沒(méi)有特別限制，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)實(shí)際情況、原料情況以及產(chǎn)品要求進(jìn)行選擇和調(diào)整，本發(fā)明為進(jìn)一步提高氧化鋅基合金紫外探測(cè)器的性能，提高氧化鋅基合金紫外探測(cè)器的響應(yīng)度，所述叉指電極層的材質(zhì)推...

如何能夠找到一種合適的紫外探測(cè)器，克服現(xiàn)有紫外探測(cè)器件存在的上述缺陷，已成為業(yè)內(nèi)諸多具有前瞻性的研究人員廣為關(guān)注的焦點(diǎn)之一。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：有鑒于此，本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題在于提供一種氧化鋅基合金紫外探測(cè)器及其制備方法，特別是一種具有陡峭的光吸收截止邊的單一相晶體結(jié)構(gòu)的氧化鋅基合金薄膜紫外探測(cè)器。本發(fā)明制備的氧化鋅基合金紫外探測(cè)器具有較低的暗電流和良好的器件穩(wěn)定性。本發(fā)明提供了一種氧化鋅基合金紫外探測(cè)器，所述氧化鋅基合金紫外探測(cè)器包括襯底；復(fù)合在所述襯底上的氧化鋅基合金薄膜層；復(fù)合在所述氧化鋅基合金薄膜層上的叉指電極層。推薦的，所述氧化鋅基合金紫外探測(cè)器的光響應(yīng)截止邊為390～410nm...

本發(fā)明屬于半導(dǎo)體紫外探測(cè)技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種氧化鋅基合金紫外探測(cè)器及其制備方法，尤其涉及一種具有陡峭的光吸收截止邊的單一相晶體結(jié)構(gòu)的氧化鋅基合金薄膜紫外探測(cè)器及其制備方法。背景技術(shù)：太陽(yáng)輻射是維持人類(lèi)日?；顒?dòng)的能源之一，雖然紫外光在太陽(yáng)光譜只占到7％的比例，但是在人類(lèi)生活中占有十分重要的角色。近些年來(lái)由于大氣中臭氧層的破壞加重，使得地球表面的紫外輻射逐漸增多，過(guò)量的紫外輻射可以引起皮膚*、白內(nèi)障以及免疫系統(tǒng)功能的降低，還可以使農(nóng)作物減產(chǎn)，產(chǎn)生一系列環(huán)境問(wèn)題。因此，關(guān)于紫外輻射的探測(cè)技術(shù)引起了的關(guān)注。而且紫外探測(cè)技術(shù)在導(dǎo)彈尾焰探測(cè)，火焰?zhèn)鞲?，空氣和水凈化以及空?duì)空通信等和民用領(lǐng)域有廣闊的應(yīng)...