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綿陽BOE蝕刻液蝕刻液配方技術(shù)

來源: 發(fā)布時(shí)間:2025-03-31

    本發(fā)明涉及回收處理技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種廢銅蝕刻液的回收處理裝置。背景技術(shù):廢銅蝕刻液含有可回收的金屬,所以需要進(jìn)行回收處理,目前通用的做法是,使用化學(xué)方法回收廢液內(nèi)的銅,或提煉成硫酸銅產(chǎn)品,工藝落后,銅回收不徹底,處理的經(jīng)濟(jì)效益不明顯,有二次污染污染物排放,一旦處理不當(dāng)往外排放,勢必對水體生態(tài)系統(tǒng)造成大的沖擊。市場上的廢銅蝕刻液的回收處理裝置只能簡單的對蝕刻液進(jìn)行回收處理,不能對蝕刻液進(jìn)行循環(huán)電解,使得剩余蝕刻液中的銅離子轉(zhuǎn)化不充分,而且蝕刻液導(dǎo)入到電解池中會對電解池造成沖擊,進(jìn)而影響電解池的使用壽命,并且在回收處理中會產(chǎn)生有害氣體而影響空氣環(huán)境,也不能在回收結(jié)束后對裝置內(nèi)部進(jìn)行清理,為此,我們提出一種廢銅蝕刻液的回收處理裝置。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本發(fā)明的目的在于提供一種廢銅蝕刻液的回收處理裝置,以解決上述背景技術(shù)中提出的市場上的廢銅蝕刻液的回收處理裝置只能簡單的對蝕刻液進(jìn)行回收處理,不能對蝕刻液進(jìn)行循環(huán)電解,使得剩余蝕刻液中的銅離子轉(zhuǎn)化不充分,而且蝕刻液導(dǎo)入到電解池中會對電解池造成沖擊,進(jìn)而影響電解池的使用壽命,并且在回收處理中會產(chǎn)生有害氣體而影響空氣環(huán)境。如何選擇一家好的做蝕刻液的公司。綿陽BOE蝕刻液蝕刻液配方技術(shù)

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    所述制備裝置主體的內(nèi)部中間部位活動(dòng)連接有高效攪拌裝置,所述制備裝置主體的一側(cè)中間部位嵌入連接有翻折觀察板,所述制備裝置主體的底端固定連接有裝置底座,所述裝置底座的內(nèi)部底部固定連接有成品罐,所述裝置底座的頂端一側(cè)固定連接有鹽酸裝罐,所述裝置底座的頂端另一側(cè)固定連接有硝酸裝罐,所述高效攪拌裝置的內(nèi)部頂部中間部位活動(dòng)連接有旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤,所述高效攪拌裝置的內(nèi)部頂部兩側(cè)活動(dòng)連接有震蕩彈簧件,所述震蕩彈簧件的頂端固定連接有運(yùn)轉(zhuǎn)電機(jī)組,所述運(yùn)轉(zhuǎn)電機(jī)組的頂端電性連接有控制面板,所述高效攪拌裝置的內(nèi)部中間部位固定連接有致密防腐桿,所述致密防腐桿的內(nèi)部內(nèi)側(cè)貫穿連接有攪動(dòng)孔,所述鹽酸裝罐的內(nèi)部一側(cè)嵌入連接有嵌入引流口,所述嵌入引流口的一端固定連接有負(fù)壓引流器,所述負(fù)壓引流器的一端固定連接有注入量控制容器,所述注入量控制容器的內(nèi)部內(nèi)側(cè)固定連接有注入量觀察刻度線,所述注入量控制容器的一側(cè)嵌入連接有限流銷。推薦的,所述翻折觀察板的內(nèi)部頂部活動(dòng)連接有觀察窗翻折滾輪,所述觀察窗翻折滾輪的底端活動(dòng)連接有內(nèi)嵌觀察窗。推薦的,所述鹽酸裝罐的頂端嵌入連接有熱水流入漏斗。推薦的,所述裝置底座的內(nèi)部兩側(cè)緊密焊接有加固支架。深圳ITO蝕刻液蝕刻液報(bào)價(jià)蝕刻液的的性價(jià)比、質(zhì)量哪家比較好?

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    其中輸送裝置借由至少一呈順時(shí)針方向轉(zhuǎn)動(dòng)的滾輪帶動(dòng)基板由噴灑裝置的下端部朝向風(fēng)刀裝置的***風(fēng)刀的下端部的方向移動(dòng)。如上所述的蝕刻方法,其中風(fēng)刀裝置分別借由一設(shè)置于該輸送裝置的上端部的***風(fēng)刀與一設(shè)置于該輸送裝置的下端部的第二風(fēng)刀朝向基板的上表面與下表面吹送氣體。借此,本實(shí)用新型所產(chǎn)生的技術(shù)效果:本實(shí)用新型的擋液板結(jié)構(gòu)與以之制備的蝕刻設(shè)備主要借由具有復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔的擋液板結(jié)構(gòu)搭配風(fēng)刀裝置的硬體設(shè)計(jì),有效使風(fēng)刀裝置吹出的氣體得以經(jīng)由宣泄孔宣泄,并利用水滴的表面張力現(xiàn)象防止水滴由宣泄孔落下造成基板蝕刻不均等異常現(xiàn)象,確實(shí)達(dá)到保有原始擋液板的擋液效果,以及增加透氣性以破除真空以減少因真空吸板導(dǎo)致的基板刮傷或破片風(fēng)險(xiǎn)等主要優(yōu)勢。附圖說明圖1:傳統(tǒng)擋液板結(jié)構(gòu)的整體設(shè)置示意圖。圖2:本實(shí)用新型擋液板結(jié)構(gòu)其一較佳實(shí)施例的整體結(jié)構(gòu)示意圖。圖3:本實(shí)用新型擋液板結(jié)構(gòu)其一較佳實(shí)施例的宣泄孔排列示意圖。圖4:本實(shí)用新型擋液板結(jié)構(gòu)其二較佳實(shí)施例的宣泄孔排列示意圖。圖5:本實(shí)用新型擋液板結(jié)構(gòu)其三較佳實(shí)施例的宣泄孔排列示意圖。圖6:本實(shí)用新型蝕刻設(shè)備其一較佳實(shí)施例的整體結(jié)構(gòu)示意圖。

    在上述硅烷系偶聯(lián)劑的含量處于上述含量范圍內(nèi)的情況下,能夠調(diào)節(jié)添加劑本身凝膠化,且獲得合適的sio2防蝕和sin蝕刻性能。(c)水本發(fā)明的蝕刻液組合物中所包含的上述水可以為用于半導(dǎo)體工序的去離子水,推薦使用18mω/㎝以上的上述去離子水。上述水的含量可以為使包含本發(fā)明的必須成分以及除此以外的其他成分的組合物總重量成為100重量%的余量。推薦可以按照本發(fā)明的組合物總重量的2~45重量%來包含。<選擇添加劑的方法、由此選擇的添加劑及利用其的蝕刻方法>此外,本發(fā)明提供選擇用于在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*對上述氮化物膜選擇性蝕刻的蝕刻液組合物的添加劑的方法、由此選擇的添加劑以及利用該添加劑的蝕刻方法。上述蝕刻液組合物中說明的、對于添加劑選擇等的一切內(nèi)容均可以同樣地應(yīng)用于本發(fā)明的選擇用于在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻上述氮化物膜的蝕刻液組合物的添加劑的方法、由此選擇的添加劑以及利用該添加劑的蝕刻方法。具體而言,提供選擇用于在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻上述氮化物膜的蝕刻液組合物的硅烷系偶聯(lián)劑的方法、由此選擇的硅烷系偶聯(lián)劑以及包含該硅烷系偶聯(lián)劑的蝕刻方法。哪家蝕刻液質(zhì)量比較好一點(diǎn)?

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    本發(fā)明涉及一種用來在銅的存在下選擇性地蝕刻鈦的蝕刻液及使用該蝕刻液的蝕刻方法。背景技術(shù):以往,在蝕刻鈦時(shí)一直使用含有氫氟酸或過氧化氫的蝕刻液。例如專利文獻(xiàn)1中提出了一種鈦的蝕刻液,該鈦的蝕刻液是用來在銅或鋁的存在下蝕刻鈦,并且該蝕刻液的特征在于:利用由10重量%至40重量%的過氧化氫、%至5重量%的磷酸、%至%的膦酸系化合物及氨所構(gòu)成的水溶液將pH值調(diào)整為7至9。但是,含有氫氟酸的蝕刻液存在毒性高的問題,含有過氧化氫的蝕刻液存在缺乏保存穩(wěn)定性的問題?,F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1:日本特許第4471094號說明書。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:發(fā)明所要解決的問題本發(fā)明是鑒于所述實(shí)際情況而成,其目的在于提供一種蝕刻液及使用該蝕刻液的蝕刻方法,所述蝕刻液可在銅的存在下選擇性地蝕刻鈦,而且毒性低,保存穩(wěn)定性優(yōu)異。解決問題的技術(shù)手段本發(fā)明的蝕刻液是為了在銅的存在下選擇性地蝕刻鈦而使用,并且含有:選自由硫酸、鹽酸及三氯乙酸所組成的群組中的至少一種酸;以及選自由硫酮系化合物及硫醚系化合物所組成的群組中的至少一種有機(jī)硫化合物。所述硫酮系化合物推薦為選自由硫脲、二乙基硫脲及三甲基硫脲所組成的群組中的至少一種。華星光電用的哪家的蝕刻液?綿陽BOE蝕刻液蝕刻液配方技術(shù)

剝離液可以有正膠和負(fù)膠以及正負(fù)膠不同的分類。綿陽BOE蝕刻液蝕刻液配方技術(shù)

    并利用水滴的表面張力現(xiàn)象防止水滴由該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121落下造成該基板20的蝕刻不均等異?,F(xiàn)象,確實(shí)達(dá)到保有原始擋液板的擋液效果,以及增加透氣性以破除真空以減少因真空吸板而導(dǎo)致該基板20刮傷或破片風(fēng)險(xiǎn)等主要優(yōu)勢。該蝕刻設(shè)備1可進(jìn)一步設(shè)置有一噴灑裝置50,該噴灑裝置50設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的一端部,且該基板20設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的下方約8毫米至15毫米之間,其中該噴灑裝置50用以噴灑一藥液51至該基板20上,以對該基板20進(jìn)行一濕式蝕刻制程;由上述的說明,擋液板結(jié)構(gòu)10的設(shè)置即是為了避免噴灑裝置50的藥液51繼續(xù)對已經(jīng)完成蝕刻步驟的基板20再進(jìn)行蝕刻制程,故仍舊會有少量的藥液51噴灑在擋液板結(jié)構(gòu)10上而留下該藥液51的水滴,而該藥液51的水滴亦不能落入該基板20上,以避免該基板20的蝕刻不均的現(xiàn)象產(chǎn)生。該輸送裝置30設(shè)置于該基板20的下方,該輸送裝置30包括有至少一滾輪31,其中該滾輪31與該基板20接觸以運(yùn)行該基板20;在本實(shí)用新型其一較佳實(shí)施例中,該輸送裝置30用以承載并運(yùn)送至少一該基板20于該濕式蝕刻機(jī)內(nèi)運(yùn)行,并接受濕式蝕刻的噴灑裝置50的制程運(yùn)作,故該輸送裝置30具有一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(圖式未標(biāo)示)以驅(qū)動(dòng)該滾輪31轉(zhuǎn)動(dòng),例如:順時(shí)針旋轉(zhuǎn)。綿陽BOE蝕刻液蝕刻液配方技術(shù)