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蕪湖鋁鉬鋁蝕刻液剝離液銷售公司

來源: 發(fā)布時間:2025-03-28

    閥門開關(guān)60設(shè)置在每一子管道301上。在一些實施例中,閥門開關(guān)60設(shè)置在每一子管道401及每一所述第二子管道502上。在一些實施例中,閥門開關(guān)60設(shè)置在每一第二子管道502上。具體的,閥門開關(guān)60的設(shè)置位置可以設(shè)置在連接過濾器30的任意管道上,在此不做贅述。在一些實施例中,請參閱圖4,圖4為本申請實施例提供的剝離液機臺100的第四種結(jié)構(gòu)示意圖。第二管道50包括多個第三子管道503,每一所述第三子管道503與一子過濾器連通301,且每一所述第三子管道503與所述下一級腔室連通102。其中,閥門開關(guān)60設(shè)置在每一第三子管道503上。本申請實施例提供的剝離液機臺,包括:依次順序排列的多級腔室、每一級所述腔室對應(yīng)連接一存儲箱;過濾器,所述過濾器的一端設(shè)置通過管道與當(dāng)前級腔室對應(yīng)的存儲箱連接,所述過濾器的另一端通過第二管道與下一級腔室連接;其中,至少在管道或所述第二管道上設(shè)置有閥門開關(guān)。通過閥門開關(guān)控制連接每一級腔室的過濾器相互獨立,從而在過濾器被阻塞時通過閥門開關(guān)將被堵塞的過濾器取下并不影響整體的剝離進程,提高生產(chǎn)效率。本申請實施例還提供一種剝離液機臺的工作方法,請參閱圖5,圖5為本申請實施例提供的剝離液機臺的工作方法的流程示意圖。哪家的剝離液比較好用點?蕪湖鋁鉬鋁蝕刻液剝離液銷售公司

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    使用當(dāng)前級腔室相應(yīng)的過濾器過濾來自當(dāng)前級腔室的剝離液并將過濾后的剝離液傳輸至下一級腔室;若所述過濾器被所述薄膜碎屑阻塞,則關(guān)閉連接被阻塞的所述過濾器的管道上的閥門開關(guān);取出被阻塞的所述過濾器。在一些實施例中,所述若所述過濾器被所述薄膜碎屑阻塞,則關(guān)閉連接被阻塞的所述過濾器的管道上的閥門開關(guān)包括:若所述過濾器包括多個并列排布的子過濾器,則關(guān)閉連接被阻塞的所述子過濾器的管道上的閥門開關(guān)。本申請實施例還提供一種剝離液機臺,包括:依次順序排列的多級腔室、每一級所述腔室對應(yīng)連接一存儲箱;過濾器,所述過濾器的一端設(shè)置通過管道與當(dāng)前級腔室對應(yīng)的存儲箱連接,所述過濾器的另一端通過第二管道與下一級腔室連接;其中,至少在所述管道或所述第二管道上設(shè)置有閥門開關(guān)開關(guān)。通過閥門開關(guān)控制連接每一級腔室的過濾器相互獨立,從而在過濾器被阻塞時通過閥門開關(guān)將被堵塞的過濾器取下并不影響整體的剝離進程,提高生產(chǎn)效率。附圖說明為了更清楚地說明本申請實施例中的技術(shù)方案,下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖**是本申請的一些實施例,對于本領(lǐng)域技術(shù)人員來講。 蘇州中芯國際用剝離液供應(yīng)剝離液分為溶劑型和水系兩種類別;

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本發(fā)明涉及能夠從施加有抗蝕劑的基材剝離抗蝕劑的抗蝕劑的剝離液。背景技術(shù)::印刷布線板的制造、主要是半加成法中使用的干膜抗蝕劑等抗蝕劑的剝離液中,伴隨微細布線化而使用胺系的剝離液。然而,以往的胺系的抗蝕劑的剝離液有廢液處理性難、海外的法規(guī)制度的問題,而避免其使用。近年來,為了避免胺系的抗蝕劑的剝離液的問題點,還報道了一種含有氫氧化鈉和溶纖劑的剝離液(專利文獻1),由于剝離時的抗蝕劑沒有微細地粉碎,因此存在近年的微細的布線間的抗蝕劑難以除去的問題點?,F(xiàn)有技術(shù)文獻專利文獻專利文獻1:日本特開2002-323776號公報技術(shù)實現(xiàn)要素:發(fā)明要解決的問題因此,本發(fā)明的課題在于,提供容易除去微細的布線間的抗蝕劑的技術(shù)。用于解決問題的手段本發(fā)明人等為了解決上述課題而深入研究的結(jié)果發(fā)現(xiàn),含有鉀鹽和溶纖劑的溶液與專利文獻1那樣的含有氫氧化鈉和溶纖劑的溶液相比,即使是非常微細的布線間的抗蝕劑也能細小地粉碎,從而完成本發(fā)明。即,本發(fā)明涉及一種抗蝕劑的剝離液,其特征在于,含有鉀鹽和溶纖劑。另外,本發(fā)明涉及一種抗蝕劑的除去方法,其特征在于,用上述抗蝕劑的剝離液處理施加有抗蝕劑的基材。

    本發(fā)明涉及剝離液技術(shù)領(lǐng)域:,更具體的說是涉及一種高世代面板銅制程光刻膠剝離液。背景技術(shù)::電子行業(yè)飛速發(fā)展,光刻膠應(yīng)用也越來越。在半導(dǎo)體元器件制造過程中,經(jīng)過涂敷-顯影-蝕刻過程,在底層金屬材料上蝕刻出所需線條之后,必須在除去殘余光刻膠的同時不能損傷任何基材,才能再進行下道工序。因此,光刻膠的剝離質(zhì)量也有直接影響著產(chǎn)品的質(zhì)量。但是傳統(tǒng)光刻膠剝離液雖然能剝離絕大部分光阻,但對于高世代面板(高世代面板是代指大尺寸的液晶面板),傳統(tǒng)剝離液親水性不夠,水置換能力較差,容易造成面板邊緣光刻膠殘留。技術(shù)實現(xiàn)要素:本發(fā)明的目的是提供一種高世代面板銅制程光刻膠剝離液。為了實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:本申請公開了一種高世代面板銅制程光刻膠剝離液,包括以下質(zhì)量組分:酰胺:50-60%;醇醚:35-45%;環(huán)胺與鏈胺:3-7%;緩蝕劑:%%;潤濕劑:%%。的技術(shù)方案中,所述的酰胺為n-甲基甲酰胺、n-甲基乙酰胺、n,n-二甲基甲酰胺中的任意一種或多種。的技術(shù)方案中,所述的醇醚為二乙二醇丁醚、二乙二醇甲醚、乙二醇甲醚、乙二醇乙醚中的任意一種或多種。的技術(shù)方案中。溶劑型剝離液哪里可以購買?

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    避免接觸皮膚、眼睛和衣服;存儲:密閉存放在陰涼干燥的地方8.防燥和人員保護極限N-Methyl-2-pyrrolidone80mg/m3(19ml/m3)DFGMAK(peaklimitationcategory-II,2)(Vapour)(skin)10ppmAIHA,TWAN,N-DIMETHYLACETAMIDE-TWA:10ppm,35mg/m3通風(fēng):良好的通風(fēng)措施,保持良好通風(fēng)人員保護設(shè)備:橡膠手套、防護目鏡,避免接觸皮膚、眼睛、衣服、避免吸入蒸汽壓;9.物理和化學(xué)性能物理測試:液體顏色:微黃氣味:類氨熔點:-24~-23℃沸點:165~204℃閃點:110℃蒸汽壓mmHg@20℃蒸汽壓密度(空氣=1):密度(水=1):粘度:10~200cps水中溶解性:任意比例混溶其它溶劑:溶于部分有機溶劑PH值:10.穩(wěn)定性與活性穩(wěn)定性:穩(wěn)定危險反應(yīng):有機和無機酸、強氧化劑、堿金屬、強酸混溶性:強氧化劑和酸不能混溶,在高溫氣壓下可與二硫化碳反應(yīng)避免條件:熱、火、火源及混溶11.毒性N-Methyl-2-pyrrolidone實際毒性LD50/口服:3600mg/kgLD50/皮膚接觸(兔):8000mg/kgLC50/吸入(鼠):>mg/1/4hN,N-DIMETHYLACETAMIDELD50/口服/鼠:>2000mg/kgLD50/皮膚接觸/兔:>。哪家公司的剝離液的口碑比較好?紹興天馬用的蝕刻液剝離液銷售廠

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    可選擇的,旋涂光刻膠厚度范圍為1000?!?0000埃。s3,執(zhí)行離子注入:可選擇的,離子注入劑量范圍為1×1013cm-2~1×1016cm-2。s4,采用氮氫混合氣體執(zhí)行等離子刻蝕,對光刻膠進行干法剝離;如背景技術(shù)中所述,經(jīng)過高劑量或大分子量的源種注入后,會在光刻膠的外層形成一層硬殼即為主要光刻膠層,主要光刻膠層包裹在第二光刻膠層外。使氮氫混合氣體與光刻膠反應(yīng)生成含氨揮發(fā)性化合物氣體,反應(yīng)速率平穩(wěn),等離子體氮氫混合氣體與主要光刻膠層、第二光刻膠層的反應(yīng)速率相等。等離子體氮氫混合氣體先剝離去除主要光刻膠層,參考圖8所示。再逐步剝離去除第二光刻膠層,參考圖9和圖10所示??蛇x的,等離子刻蝕氣體是氮氫混合氣體,氫氮混合比例范圍為4:96~30:70。s5,對襯底表面進行清洗??蛇x擇的,對硅片執(zhí)行單片排序清洗。單片清洗時,清洗液噴淋到硅片正面,單片清洗工藝結(jié)束后殘液被回收,下一面硅片清洗時再重新噴淋清洗液,清洗工藝結(jié)束后殘液再被回收,如此重復(fù)?,F(xiàn)有的多片硅片同時放置在一個清洗槽里清洗的批處理清洗工藝,在清洗過程中同批次不同硅片的反應(yīng)殘余物可能會污染其他硅片,或者上一批次硅片留在清洗槽的反應(yīng)殘余物可能會污染下一批次硅片。相比而言。蕪湖鋁鉬鋁蝕刻液剝離液銷售公司