賽瑞達智能電子裝備（無錫）有限公司2025-03-09

控制擴散均勻性至關(guān)重要。首先，要確保擴散爐內(nèi)溫度分布均勻，這需要高質(zhì)量的加熱元件和精細的溫度控制系統(tǒng)，使爐內(nèi)各位置溫度偏差控制在極小范圍內(nèi)。其次，POCl?蒸汽在爐內(nèi)的分布均勻性很關(guān)鍵。通過合理設計氣體輸送管道和流量控制系統(tǒng)，讓攜帶 POCl?蒸汽的氣體能均勻地覆蓋硅片表面。此外，硅片在爐內(nèi)的放置方式也有影響，一般采用專門設計的載具，保證硅片之間的間距均勻，避免相互遮擋，使每個硅片都能在相同的環(huán)境下進行擴散反應，從而保證擴散的均勻性。?

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