Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系統(tǒng)制作的高精度器件圖登上了剛發(fā)布的商業(yè)微納制造雜志“CommercialMicroManufacturingmagazine”（CMM）。文章中介紹了高精度3D打印，并重點講解了先進的打印材料是如何讓雙光子聚合技術應用錦上添花的。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程，實現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術用于3D微納結構的增材制造，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結構制作。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(2GL®)可用于工業(yè)領域2.5D微納米結構原型母版制作。2GL通過創(chuàng)新的設計重新定義了典型復雜結構微納光學元件的微納加工制造。該技術結合了灰度光刻的出色性能，以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性

Nanoscribe的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點。德國新型雙光子聚合

雙光子聚合技術作為物質(zhì)在發(fā)生雙光子吸收后所引發(fā)的光聚合過程的新興技術，已經(jīng)在許多領域展示出其巨大的潛力和價值。隨著科技的不斷進步和發(fā)展，我們可以預見到雙光子聚合技術在未來將會開啟更多的應用領域，推動光電產(chǎn)業(yè)的持續(xù)進步和發(fā)展。同時，隨著新材料的不斷涌現(xiàn)和技術的不斷突破，雙光子聚合技術的應用前景也將更加廣闊。雙光子聚合技術以其高精度、高分辨率、快速高效、高度靈活性和可擴展性等優(yōu)勢，已經(jīng)在快速3D打印、光子晶體形成、高精度光子器件制造等領域展示出廣泛的應用前景。未來，隨著科技的不斷進步和發(fā)展，我們相信雙光子聚合技術將會在更多領域得到應用和推廣，為光電產(chǎn)業(yè)的發(fā)展開啟新的篇章。北京Nanoscribe雙光子聚合激光直寫雙光子聚合三維微制造系統(tǒng)是一種用于化學領域的工藝試驗儀器。

QuantumXshape在3D微納加工領域非常出色的精度，比肩于Nanoscribe公司在表面結構應用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細處理網(wǎng)格，從而實現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外，受益于雙光子灰度光刻對體素的微調(diào)，該系統(tǒng)在表面微結構的制作上可達到超光滑，同時保持高精度的形狀控制。QuantumXshape不只是應用于生物醫(yī)學、微光學、MEMS、微流道、表面工程學及其他很多領域中器件的快速原型制作的理想工具，同時也成為基于晶圓的小結構單元的批量生產(chǎn)的簡易工具。通過系統(tǒng)集成觸控屏控制打印文件來很大程度提高實用性。通過系統(tǒng)自帶的nanoConnectX軟件來進行打印文件的遠程監(jiān)控及多用戶的使用配置，實現(xiàn)推動工業(yè)標準化及基于晶圓批量效率生產(chǎn)

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具，可實現(xiàn)通過簡單工作流程進行高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實現(xiàn)高精度增材制造，以達到高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量?？偠灾?，工業(yè)級QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結構的非常先進的微制造工藝，適用于晶圓級批量加工。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作。這種高質(zhì)量的打印效果是結合了特別先進的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結果，同時還離不開工業(yè)級飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅固的花崗巖操作平臺。QuantumXshape具有先進的激光焦點軌跡控制，可操控振鏡加速和減速至特別快的掃描速度，并以1MHz調(diào)制速率動態(tài)調(diào)整激光功率。Nanoscribe公司的系列產(chǎn)品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統(tǒng)。

隨著科技的不斷進步，雙光子聚合激光直寫技術正以驚人的速度改變著我們的生活。這項創(chuàng)新技術利用雙光子效應，通過高能量激光束直接寫入材料表面，實現(xiàn)了高精度、高效率的微納加工。它不僅在微電子、光電子、生物醫(yī)學等領域展現(xiàn)出巨大潛力，還為我們帶來了無限的想象空間。雙光子聚合激光直寫技術的突破在于其能夠實現(xiàn)超高分辨率的微納加工。傳統(tǒng)的光刻技術受限于光的波長，無法達到納米級別的加工精度。而雙光子聚合激光直寫技術則能夠利用兩個光子的能量共同作用，將加工精度提升到亞微米甚至納米級別。這使得我們能夠制造出更小、更精細的微型器件，為微電子行業(yè)帶來了巨大的發(fā)展機遇。除了在微電子領域的應用，雙光子聚合激光直寫技術還在光電子領域展現(xiàn)出了巨大的潛力。通過控制激光束的強度和聚焦點的位置，我們可以在光學材料中實現(xiàn)三維結構的直接寫入。這為光學器件的制造提供了全新的思路，不僅能夠提高器件的性能，還能夠降低成本。這對于光通信、光存儲等領域的發(fā)展具有重要意義。雙光子聚合的特點和用途你了解嗎？如需了解請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。德國新型雙光子聚合

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您一起揭秘什么是雙光子聚合技術。德國新型雙光子聚合

雙光子聚合是物質(zhì)在發(fā)生雙光子吸收后所引發(fā)的光聚合過程。雙光子吸收是指物質(zhì)的一個分子同時吸收兩個光子的過程，只能在強激光作用下發(fā)生，是一種強激光下光與物質(zhì)相互作用的現(xiàn)象，屬于三階非線性效應的一種。雙光子吸收的發(fā)生主要在脈沖激光所產(chǎn)生的特別強激光的焦點處，光路上其他地方的激光強度不足以產(chǎn)生雙光子吸收，而由于所用光波長較長，能量較低，相應的單光子過程不能發(fā)生，因此，雙光子過程具有良好的空間選擇性。雙光子聚合利用了雙光子吸收過程對材料穿透性好、空間選擇性高的特點，在三維微加工、高密度光儲存及生物醫(yī)療領域有著巨大的應用前景，近年來已成為全球高新技術領域的一大研究熱點。德國新型雙光子聚合