Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結構增材制造**,一直致力于開發(fā)和生產和無掩模光刻系統,以及自研發(fā)的打印材料和特定應用不同解決方案。在全球頂端大學和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解決方案。作為基于雙光子聚合技術(2PP)的微納加工領域市場帶領者,Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領域的客戶群體?;?PP微納加工技術方面的專業(yè)知識,Nanoscribe為頂端科學研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強大的技術支持,并推動生物打印、微流體、微納光學、微機械、生物醫(yī)學工程和集成光子學技術等不同領域的發(fā)展科學家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術,實現微流道母版制造和密閉通道系統內部的芯片內直接打印。微納米雙光子聚合無掩光刻
Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結構增材制造**,一直致力于開發(fā)和生產和無掩模光刻系統,以及自研發(fā)的打印材料和特定應用不同解決方案。在全球頂端大學和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解決方案。作為基于雙光子聚合技術(2PP)的微納加工領域市場帶領者,Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領域的客戶群體?;?PP微納加工技術方面的專業(yè)知識,Nanoscribe為頂端科學研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強大的技術支持,并推動生物打印、微流體、微納光學、微機械、生物醫(yī)學工程和集成光子學技術等不同領域的發(fā)展?!拔覀兎浅F诖尤隒ELLINK集團,共同探索雙光子聚合技術在未來所帶來的更大機遇”NanoscribeCEOMartinHermatschweiler說道江蘇亞微米級雙光子聚合三維光刻Nanoscribe的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點。
雙光子聚合技術作為物質在發(fā)生雙光子吸收后所引發(fā)的光聚合過程的新興技術,已經在許多領域展示出其巨大的潛力和價值。隨著科技的不斷進步和發(fā)展,我們可以預見到雙光子聚合技術在未來將會開啟更多的應用領域,推動光電產業(yè)的持續(xù)進步和發(fā)展。同時,隨著新材料的不斷涌現和技術的不斷突破,雙光子聚合技術的應用前景也將更加廣闊。雙光子聚合技術以其高精度、高分辨率、快速高效、高度靈活性和可擴展性等優(yōu)勢,已經在快速3D打印、光子晶體形成、高精度光子器件制造等領域展示出廣泛的應用前景。未來,隨著科技的不斷進步和發(fā)展,我們相信雙光子聚合技術將會在更多領域得到應用和推廣,為光電產業(yè)的發(fā)展開啟新的篇章。
QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具,可實現通過簡單工作流程進行高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統QuantumX的同系列產品,QuantumXshape提升了3D微納加工能力,即完美平衡精度和速度以實現高精度增材制造,以達到高水平的生產力和打印質量??偠灾?,工業(yè)級QuantumX打印系統系列提供了從納米到中觀尺寸結構的非常先進的微制造工藝,適用于晶圓級批量加工。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統,QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版,可適用于批量生產的流水線工業(yè)程序,例如注塑,熱壓花和納米壓印等加工流程,從而拓展微納加工工業(yè)領域的應用。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術的3D微納加工系統基礎上進一步擴大產品組合實現多樣化。
Nanoscribe對準雙光可光刻技術搭配nanoPrintX,一種基于場景圖概念的軟件工具,可用于定義對準3D打印的打印項目。樹狀數據結構提供了所有與打印相關的對象和操作的分層組織,用于定義何時、何地、以及如何進行打印。在nanoPrintX中可以定義單個對準標記以及基板特征,例如芯片邊緣和光纖表面。使用QuantumXalign系統的共焦單元或光纖照明單元,可以識別這些特定的基板標記,并將其與在nanoPrintX中定義的數字模型進行匹配。對準雙光子光刻技術和nanoPrintX軟件是QuantumXalign系統的標配。你知道雙光子聚合、飛秒激光加工、雙光子顯微成像區(qū)別在哪里嗎?微納米雙光子聚合無掩光刻
Nanoscribe中國分公司-納糯三維帶您一起了解飛秒激光雙光子聚合微納加工。微納米雙光子聚合無掩光刻
QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統,用于快速原型制作和晶圓級批量生產,以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產領域的潛力。該系統是基于雙光子聚合技術(2PP)的專業(yè)激光直寫系統,可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。QuantumXshape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要,這對于科研和工業(yè)生產領域應用有著重大意義。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統QuantumX產品系列的第二臺設備,可實現在25cm2面積內打印任何結構,很大程度推動了生命科學,微流體,材料工程學中復雜應用的快速原型制作。QuantumXshape作為具備光敏樹脂自動分配功能的直立式打印系統,非常適合標準6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造。微納米雙光子聚合無掩光刻