作為歐盟光子計算項目PHOENICS（2020Horizont歐盟地平線科研項目）的成員，Nanoscribe攜手德國明斯特大學，與全球光子計算領域的**一起，展開了為期四年的科研項目，以實現超高寬帶的高能效千兆計算處理能力，用于新一代人工智能（AI）應用的計算平臺。Nanoscribe將為光子封裝技術開發(fā)新的硬件和軟件解決方案。各種不同光子平臺都有著不同類型的光子耦合接口，而這正是光子封裝系統(tǒng)工業(yè)化的主要困難和挑戰(zhàn)。雙光子無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX作為硬件載體框架，并計劃建立一個先進的平臺，成為下一代光子封裝技術的行業(yè)榜樣。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您揭秘雙光子灰度光刻系統(tǒng)的應用。廣東2GL灰度光刻技術

Nanoscribe成立于2007年，憑借著爾斯魯厄理工學院（KIT）的技術背景和卡爾蔡司公司（CarlZeissAG）的支持，經過十幾年的不斷研究和成長成為了現在世界公認的微納米加工技術和3D打印市場的帶領者，并于2017年在上海成立分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。公司主要產品有基于雙光子聚合技術（Two-PhotonPolymerization）并擁有多項國際專項的雙光子微納3D打印系統(tǒng)PhotonicProfessionalGT2。全球頭一臺工業(yè)級雙光子灰度光刻（2GL®)微納打印設備QuantumX受到普遍關注并被眾多高學府和高科技單位所采用，例如哈佛大學，牛津大學等出名的院校，華為公司等?？蓱糜谖⒓{機器人，再生醫(yī)學工程，微納光學，力學超材料等不同領域。上海高分辨率灰度光刻無掩膜激光直寫基于雙光子灰度光刻技術 (2GL ?)的Quantum X打印系統(tǒng)可以實現一氣呵成的制作。

Nanoscribe稱QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。該系統(tǒng)配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器。為了簡化硬件配置之間的轉換，物鏡和樣品夾持器識別會自動運行。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目，打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。

微凹透鏡陣列結構是光學器件中的一種常見組件，具有較強的聚焦和成像能力。以往制備此類結構的方法有熱回流、灰度光刻、干法刻蝕和注射澆鑄等。受加工手段的限制，傳統(tǒng)的微透鏡陣列往往是在1個平板襯底上加工出一系列相同尺寸的凹透鏡結構，這樣的1組微透鏡陣列無法將1個平面物體聚焦至1個像平面上，會產生場曲。在商業(yè)生產中，為了消除場曲這種光學像差，只能在后續(xù)光路中引入場鏡組來進行校正，從而增加了器件復雜度和成本。如果采用3D飛秒激光打印來加工微凹透鏡陣列即可通過設計一系列具有漸變深度的微凹透鏡單元直接消除場曲。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您介紹Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)。

    基于雙光子聚合(2PP)，一種提供比較高精度和完整設計自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術，Nanoscribe認為直接激光寫入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何，在面積達25cm2的區(qū)域上都具有亞微米級精度。Nanoscribe的聯合創(chuàng)始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示，該公司正在通過其新機器為科學和工業(yè)用途的晶圓級高精度微制造設定新標準?！半m然QuantumX已經通過雙光子灰度光刻技術推動了平面微光學器件的超快速制造，但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為高效可靠的工具用于研究實驗室和工業(yè)中的快速原型制作和批量生產。”。 Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)Quantum X適用于制造微光學衍射以及折射元件。天津工業(yè)級灰度光刻3D打印

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您講解雙光子灰度光刻技術的運用。廣東2GL灰度光刻技術

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)QuantumX的中心是Nanoscribe獨jia專li的雙光子灰度光刻技術。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設計迭代，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型，也可以用作工業(yè)生產上的加工模具。德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會展LASERWorldofPhotonics上發(fā)布了全新工業(yè)級雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)QuantumX，并榮獲創(chuàng)新獎。該系統(tǒng)是世界上No.1基于雙光子灰度光刻技術（2GL?）的精密加工微納米打印系統(tǒng)，可應用于折射和衍射微光學。該系統(tǒng)的面世表示著Nanoscribe已進軍現代微加工工業(yè)領域。具有全自動化系統(tǒng)的QuantumX無論從外形或者使用體驗上都更符合現代工業(yè)需求。廣東2GL灰度光刻技術

納糯三維科技（上海）有限公司位于中國(上海)自由貿易試驗區(qū)加楓路26號108室。公司業(yè)務涵蓋PPGT2，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統(tǒng)，雙光子微納光刻系統(tǒng)等，價格合理，品質有保證。公司注重以質量為中心，以服務為理念，秉持誠信為本的理念，打造儀器儀表良好品牌。納糯三維秉承“客戶為尊、服務為榮、創(chuàng)意為先、技術為實”的經營理念，全力打造公司的重點競爭力。