EVG的光刻機(jī)技術(shù):EVG在光刻技術(shù)上的關(guān)鍵能力在于其掩模對(duì)準(zhǔn)器的高產(chǎn)能,接觸和接近曝光功能以及其光刻膠處理系統(tǒng)的內(nèi)部處理的相關(guān)知識(shí)。EVG的所有光刻設(shè)備平臺(tái)均支持300毫米的晶圓,可以完全集成到其HERCULES光刻軌道系統(tǒng)中,并配有用于從上到下的側(cè)面對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)...
一、從根源保障物件成品的準(zhǔn)確性:通過光學(xué)表面三維輪廓儀的掃描檢測(cè),得出物件的誤差和超差參數(shù),積大提高物件在生產(chǎn)加工時(shí)的精確度。杜絕因上游的微小誤差形成“蝴蝶效應(yīng)”,造成下游生產(chǎn)加工的更大偏離,蕞終導(dǎo)致整個(gè)生產(chǎn)鏈更大的損失。二、提高效率:智能化檢測(cè),全自動(dòng)測(cè)量,...
F10-AR無須處理涂層背面我們探頭設(shè)計(jì)能抑制1.5mm厚基板98%的背面反射,使用更厚的鏡頭抑制的更多。就像我們所有的臺(tái)式儀器一樣,F(xiàn)10-AR需要連接到您裝有Windows計(jì)算機(jī)的USB端口上并在數(shù)分鐘內(nèi)即可完成設(shè)定。包含的內(nèi)容:集成光譜儀/光源裝置FIL...
HERCULES光刻軌道系統(tǒng)技術(shù)數(shù)據(jù):對(duì)準(zhǔn)方式:上側(cè)對(duì)準(zhǔn):≤±0.5μm;底側(cè)對(duì)準(zhǔn):≤±1,0μm;紅外校準(zhǔn):≤±2,0μm/具體取決于基材先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能:手動(dòng)對(duì)準(zhǔn);自動(dòng)對(duì)準(zhǔn);動(dòng)態(tài)對(duì)準(zhǔn)。對(duì)準(zhǔn)偏移校正:自動(dòng)交叉校正/手動(dòng)交叉校正;大間隙對(duì)準(zhǔn)。工業(yè)自動(dòng)化功能:盒式...
EVG?520HE熱壓印系統(tǒng)特色:經(jīng)通用生產(chǎn)驗(yàn)證的熱壓印系統(tǒng),可滿足蕞高要求EVG520HE半自動(dòng)熱壓印系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于對(duì)熱塑性基材進(jìn)行高精度壓印。EVG的這種經(jīng)過生產(chǎn)驗(yàn)證的系統(tǒng)可以接受直徑蕞大為200mm的基板,并且與標(biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)兼容。熱壓印系統(tǒng)配置有通...
我們可以根據(jù)您的需求提供進(jìn)行優(yōu)化的多用途系統(tǒng)。我們的掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于從掩模對(duì)準(zhǔn)到鍵合對(duì)準(zhǔn)的快速簡(jiǎn)便轉(zhuǎn)換。此外,可以使用用于壓印光刻的可選工具集,例如UV-納米壓印光刻,熱壓印或微接觸印刷。所有系統(tǒng)均支持原位對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證軟件,以提高手動(dòng)操作系統(tǒng)的對(duì)準(zhǔn)精度和可重復(fù)...
首先準(zhǔn)備一塊柔性薄膜作為彈性基底層,然后將巰基-烯預(yù)聚物旋涂在具有表面結(jié)構(gòu)的母板上,彈性薄膜壓印在巰基-烯層上,與材料均勻接觸。巰基-烯材料可以在自然環(huán)境中固化通過“點(diǎn)擊反應(yīng)”形成交聯(lián)聚合物,不受氧氣和水的阻聚作用。順利分離開母板后,彈性薄膜與固化后的巰基-烯...
EVG?610紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),從碎片到ZUI大150毫米。該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并且可以選擇背面對(duì)準(zhǔn)。此外,該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻(...
比較橢圓偏振儀和光譜反射儀光譜橢圓偏振儀(SE)和光譜反射儀(SR)都是利用分析反射光確定電介質(zhì),半導(dǎo)體,和金屬薄膜的厚度和折射率。兩者的主要區(qū)別在于橢偏儀測(cè)量小角度從薄膜反射的光,而光譜反射儀測(cè)量從薄膜垂直反射的光。獲取反射光譜指南入射光角度的不同造成兩種技...
輪廓儀對(duì)所測(cè)樣品的尺寸有何要求?答:輪廓儀對(duì)載物臺(tái)xy行程為140*110mm(可擴(kuò)展),Z向測(cè)量范圍蕞大可達(dá)10mm,但由于白光干涉儀單次測(cè)量區(qū)域比較小(以10X鏡頭為例,在1mm左右),因而在測(cè)量大尺寸的樣品時(shí),全檢的方式需要進(jìn)行拼接測(cè)量,檢測(cè)效率會(huì)比較低...
Filmetrics的技術(shù)Filmetrics提供了范圍廣范的測(cè)量生物醫(yī)療涂層的方案:支架:支架上很小的涂層區(qū)域通常需要顯微鏡類的儀器。我們的F40在幾十個(gè)實(shí)驗(yàn)室內(nèi)得到使用,測(cè)量鈍化和/或藥物輸送涂層。我們有獨(dú)特的測(cè)量系統(tǒng)對(duì)整個(gè)支架表面的自動(dòng)厚度測(cè)繪,只需在測(cè)...
輪廓儀、粗糙度儀、三坐標(biāo)的區(qū)別:關(guān)于輪廓儀和粗糙度儀輪廓儀與粗糙度儀不是同一種產(chǎn)品,輪廓儀主要功能是測(cè)量零件表面的輪廓形狀,比如:汽車零件中的溝槽的槽深、槽寬、倒角(包括倒角位置、倒角尺寸、角度等),圓柱表面素線的直線度等參數(shù)??傊喞獌x反映的是零件的宏觀輪...
UV-NIL/SmartNIL納米壓印系統(tǒng)EVGroup為基于紫外線的納米壓印光刻(UV-NIL)提供完整的產(chǎn)品線,包括不同的單步壓印系統(tǒng),大面積壓印機(jī)以及用于高效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng)。除了柔軟的UV-NIL,EVG還提供其專有的SmartNIL技術(shù)以及多種...
1、激光測(cè)厚儀是利用激光的反射原理,根據(jù)光切法測(cè)量和觀察機(jī)械制造中零件加工表面的微觀幾何形狀來測(cè)量產(chǎn)品的厚度,是一種非接觸式的動(dòng)態(tài)測(cè)量?jī)x器。它可直接輸出數(shù)字信號(hào)與工業(yè)計(jì)算機(jī)相連接,并迅速處理數(shù)據(jù)并輸出偏差值到各種工業(yè)設(shè)備。2、X射線測(cè)厚儀利用X射線穿透被測(cè)材料...
NIL已被證明是在大面積上實(shí)現(xiàn)納米級(jí)圖案的蕞具成本效益的方法,因?yàn)樗皇芄鈱W(xué)光刻所需的復(fù)雜光學(xué)器件的限制,并且它可以為極小尺寸(小于100分)提供蕞佳圖案保真度nm)結(jié)構(gòu)。EVG的SmartNIL是基于紫外線曝光的全場(chǎng)壓印技術(shù),可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù),...
更可加裝至三個(gè)探頭,同時(shí)測(cè)量三個(gè)樣品,具紫外線區(qū)或標(biāo)準(zhǔn)波長(zhǎng)可供選擇。F40:這型號(hào)安裝在任何顯微鏡外,可提供*小5um光點(diǎn)(100倍放大倍數(shù))來測(cè)量微小樣品。F50:這型號(hào)配備全自動(dòng)XY工作臺(tái),由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通過快速掃瞄功...
這使得可以在工業(yè)水平上開發(fā)新的設(shè)備或工藝,這不僅需要高度的靈活性,而且需要可控和可重復(fù)的處理。EVG在要求苛刻的應(yīng)用中積累了多年的旋涂和噴涂經(jīng)驗(yàn),并將這些知識(shí)技能整合到EVG100系列中,可以利用我們的工藝知識(shí)為客戶提供支持。光刻膠處理設(shè)備有:EVG101光刻...
涵蓋面廣的2D、3D形貌參數(shù)分析:表面三維輪廓儀可測(cè)量300余種2D、3D參數(shù),無論加工的物件使用哪一種評(píng)定標(biāo)準(zhǔn),都可以提供權(quán)面的檢測(cè)結(jié)果作為評(píng)定依據(jù),可輕松獲取被測(cè)物件精確的線粗糙度、面粗糙度、輪廓度等參數(shù)。四、穩(wěn)定性強(qiáng),高重復(fù)性:儀器運(yùn)用高性能內(nèi)部抗震設(shè)計(jì)...
更可加裝至三個(gè)探頭,同時(shí)測(cè)量三個(gè)樣品,具紫外線區(qū)或標(biāo)準(zhǔn)波長(zhǎng)可供選擇。F40:這型號(hào)安裝在任何顯微鏡外,可提供*小5um光點(diǎn)(100倍放大倍數(shù))來測(cè)量微小樣品。F50:這型號(hào)配備全自動(dòng)XY工作臺(tái),由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通過快速掃瞄功...
FSM8018VITE測(cè)試系列設(shè)備VITE技術(shù)介紹:VITE是傅里葉頻域技術(shù),利用近紅外光源的相位剪切技術(shù)(Phasesheartechnology)設(shè)備介紹適用于所有可讓近紅外線通過的材料:硅、藍(lán)寶石、砷化鎵、磷化銦、碳化硅、玻璃、石英、聚合物…………應(yīng)用:...
”EV集團(tuán)的技術(shù)研發(fā)與IP主管MarkusWimplinger說,“通過與供應(yīng)鏈的關(guān)鍵企業(yè)的合作,例如DELO,我們能夠進(jìn)一步提高效率,作為與工藝和設(shè)備**們一同研究并建立關(guān)鍵的新生產(chǎn)線制造步驟的中心。”“EVG和DELO分別是晶圓級(jí)光學(xué)儀器與NIL設(shè)備與光學(xué)...
對(duì)EVGWLO制造解決方案的需求在一定程度上是由對(duì)用于移動(dòng)消費(fèi)電子產(chǎn)品的新型光學(xué)傳感解決方案和設(shè)備的需求驅(qū)動(dòng)的。關(guān)鍵示例包括3D感測(cè)(對(duì)于獲得更真實(shí)的虛擬和增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)(VR/AR)用戶體驗(yàn)至關(guān)重要),生物特征感測(cè)(對(duì)于安全應(yīng)用而言越來越關(guān)鍵),環(huán)境感測(cè),紅外(I...
EVG?770的特征:微透鏡用于晶片級(jí)光學(xué)器件的高效率制造主下降到納米結(jié)構(gòu)為SmartNIL?簡(jiǎn)單實(shí)施不同種類的大師可變抗蝕劑分配模式分配,壓印和脫模過程中的實(shí)時(shí)圖像用于壓印和脫模的原位力控制可選的光學(xué)楔形誤差補(bǔ)償可選的自動(dòng)盒帶間處理EVG?770技術(shù)數(shù)據(jù):晶...
F10-HC輕而易舉而且經(jīng)濟(jì)有效地分析單層和多層硬涂層F10-HC以FilmetricsF20平臺(tái)為基礎(chǔ),根據(jù)光譜反射數(shù)據(jù)分析快速提供薄膜測(cè)量結(jié)果。F10-HC先進(jìn)的模擬算法是為測(cè)量聚碳酸酯和其它單層和多層硬涂層(例如,底涂/硬涂層)專門設(shè)計(jì)的。全世界共有數(shù)百...
這使得可以在工業(yè)水平上開發(fā)新的設(shè)備或工藝,這不僅需要高度的靈活性,而且需要可控和可重復(fù)的處理。EVG在要求苛刻的應(yīng)用中積累了多年的旋涂和噴涂經(jīng)驗(yàn),并將這些知識(shí)技能整合到EVG100系列中,可以利用我們的工藝知識(shí)為客戶提供支持。光刻膠處理設(shè)備有:EVG101光刻...
EVG曝光光學(xué):專門開發(fā)的分辨率增強(qiáng)型光學(xué)元件(REO)可提供高出50%的強(qiáng)度,并顯著提高/分辨率,在接近模式下可達(dá)到小于3μm的分辨率。REO的特殊設(shè)計(jì)有助于控制干涉效應(yīng)以獲得分辨率。EVG蕞新的曝光光學(xué)增強(qiáng)功能是LED燈設(shè)置。低能耗和長(zhǎng)壽命是UV-LED光...
生物醫(yī)療設(shè)備涂層應(yīng)用生物醫(yī)療器械應(yīng)用中的涂層生物醫(yī)療器械的制造和準(zhǔn)備方面會(huì)用到許多類型的涂層。有些涂層是為了保護(hù)設(shè)備免受腐蝕,而其他的則是為了預(yù)防組織損傷、敢染或者是排異反應(yīng)。藥物傳輸涂層也變得日益普通。其它生物醫(yī)學(xué)器械,如血管成型球囊,具有讀立的隔膜,必須具...
電介質(zhì)成千上萬的電解質(zhì)薄膜被用于光學(xué),半導(dǎo)體,以及其它數(shù)十個(gè)行業(yè), 而Filmetrics的儀器幾乎可以測(cè)量所有的薄膜。常見的電介質(zhì)有:二氧化硅 – ZUI簡(jiǎn)單的材料之一, 主要是因?yàn)樗诖蟛糠止庾V上的無吸收性 (k=0), 而且非常接近化學(xué)計(jì)量 (就是說,硅...
其中包括家用電器、醫(yī)藥、電子、光學(xué)、生命科學(xué)、汽車和航空業(yè)。肖特在全球34個(gè)國(guó)家和地區(qū)設(shè)有生產(chǎn)基地和銷售辦事處。公司目前擁有員工超過15500名,2017/2018財(cái)年的銷售額為??偛课挥诘聡?guó)美因茨的母公司SCHOTTAG由卡爾蔡司基金會(huì)(CarlZeissF...
EV集團(tuán)(EVG)是面向MEMS,納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場(chǎng)的晶圓鍵合機(jī)和光刻設(shè)備的LINGXIAN供應(yīng)商,日前宣布已收到其制造設(shè)備和服務(wù)組合的多個(gè)訂單,這些產(chǎn)品和服務(wù)旨在滿足對(duì)晶圓的新興需求,水平光學(xué)(WLO)和3D感應(yīng)。市場(chǎng)lingxian的產(chǎn)品組合包括EVG?...