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等離子清洗機(jī)的表面涂覆功能:表面涂覆典型的作用就是在材料的表面形成一層保護(hù)層。等離子清洗機(jī)主要應(yīng)用于燃料容器、防刮表面、類(lèi)似于聚四氟(PTFE)材質(zhì)的涂鍍、防水鍍層等。等離子清洗機(jī)的表面涂覆功能在給材料進(jìn)行保護(hù)的同時(shí)也在材料表面形成了一層新的物質(zhì),對(duì)后序粘結(jié)和印刷工藝中進(jìn)行改善。等離子清洗機(jī)在精密電子、半導(dǎo)體封裝、汽車(chē)制造、生物醫(yī)療、光電制造、新能源、紡織印染、包裝容器、家用家電等行業(yè)均得到廣泛的應(yīng)用。plasma等離子清洗機(jī)是一款通過(guò)plasma(等離子體)進(jìn)行表面處理的設(shè)備。上海大氣等離子清洗機(jī)售后服務(wù)
低溫等離子清洗機(jī)處理溫度低,全程無(wú)污染,處理效率高,可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)在線生產(chǎn)。樣品表面經(jīng)過(guò)短時(shí)間處理可以顯著提高材料表面能,親水性,處理效果均勻穩(wěn)定。等離子活化是一種利用等離子體處理技術(shù)對(duì)材料表面進(jìn)行活化處理的方法。等離子體具有對(duì)材料表面活化的作用,因?yàn)榈入x子體包含離子、原子、電子、分子、自由基和紫外光等多種具有高度活性的粒子。在這些高能粒子轟擊下,材料表面可能發(fā)生化學(xué)斷裂、重組,從而達(dá)到材料表面性能改變的目的。上海大氣等離子清洗機(jī)售后服務(wù)等離子處理通過(guò)在介質(zhì)中產(chǎn)生等離子體,利用等離子體的高能離子轟擊表面,從而改變表面性質(zhì)。
汽車(chē)保險(xiǎn)杠通常會(huì)采用塑料材料,其中PP和EPDM材料具有韌性好、易加工,又加上具有成本優(yōu)勢(shì),一直以來(lái)都是汽車(chē)保險(xiǎn)桿生產(chǎn)廠商的好幫手。我們知道,保險(xiǎn)杠需經(jīng)過(guò)噴漆處理,而PP和EPDM材料表面能比較低,直接涂會(huì)掉漆,以往都是在噴漆前用火焰處理來(lái)提高材料的表面能,但火焰處理方式容易造成材料變形和色變,并且材料耐老化性差。真空等離子體清洗機(jī)表面處理技術(shù)不僅能解決保險(xiǎn)杠PP和EPDM材料表面能低,粘接力差的問(wèn)題,而且安全可靠,得到了生產(chǎn)廠商的認(rèn)可和使用。等離子清洗機(jī)應(yīng)用于PP和EPDM材料處理是一種干式環(huán)保的處理方式,通過(guò)等離子清洗機(jī)的處理,既能夠有效提升PP包材的表面粘接力,使之在印染時(shí)粘得更牢、不易脫落,且無(wú)需使用溶劑,綠色環(huán)保、節(jié)約成本。
等離子表面處理機(jī)是利用等離子體在表面形成的化學(xué)反應(yīng)來(lái)改變物體表面性質(zhì)的一種設(shè)備。其基本原理是利用等離子體的高能量來(lái)激發(fā)表面原子或分子,使其發(fā)生化學(xué)反應(yīng),從而改變表面的物理、化學(xué)性質(zhì)。等離子體可由高頻電源產(chǎn)生,通過(guò)電極產(chǎn)生強(qiáng)電場(chǎng),使氣體離子化形成等離子體。等離子表面處理機(jī)在燃料電池領(lǐng)域的前景等離子表面處理技術(shù)具有精度高、控制性好、效率高等優(yōu)點(diǎn),在燃料電池領(lǐng)域有著廣闊的應(yīng)用前景。未來(lái),等離子表面處理機(jī)將成為燃料電池制備中的重要工具之一,為燃料電池的商業(yè)化應(yīng)用提供支持。同時(shí),隨著等離子表面處理技術(shù)的不斷發(fā)展,其在燃料電池領(lǐng)域的應(yīng)用也將不斷拓展,為燃料電池的性能提升和成本降低提供更多的可能性。大氣射流型等離子清洗機(jī)具有清洗效率高、可實(shí)現(xiàn)在線式生產(chǎn)、環(huán)保等優(yōu)點(diǎn)。
真空等離子處理是如何進(jìn)行?要進(jìn)行等離子處理產(chǎn)品,首先我們產(chǎn)生等離子體。首先,單一氣體或者混合氣體被引入密封的低壓真空等離子體室。隨后這些氣體被兩個(gè)電極板之間產(chǎn)生的射頻(RF)jihuo,這些氣體中被jihuo的離子加速,開(kāi)始震動(dòng)。這種振動(dòng)“用力擦洗”需要清洗材料表面的污染物。在處理過(guò)程中,等離子體中被jihuo的分子和原子會(huì)發(fā)出紫外光,從而產(chǎn)生等離子體輝光。溫度控制系統(tǒng)常用于控制刻蝕速率。60-90攝氏度溫度之間刻蝕,是室溫刻蝕速度的四倍。對(duì)溫度敏感的部件或組件,等離子體蝕刻溫度可以控制在15攝氏度。我們所有的溫度控制系統(tǒng)已經(jīng)預(yù)編程并集成到等離子體系統(tǒng)的軟件中間。設(shè)置保存每個(gè)等離子處理的程序能輕松復(fù)制處理過(guò)程??梢酝ㄟ^(guò)向等離子體室中引入不同氣體,改變處理過(guò)程。常用的氣體包括O2、N2,Ar,H2和CF4。世界各地的大多數(shù)實(shí)驗(yàn)室,基本上都使用這五種氣體單獨(dú)或者混合使用,進(jìn)行等離子體處理。等離子體處理過(guò)程通常需要大約兩到十分鐘。當(dāng)?shù)入x子體處理過(guò)程完成時(shí),真空泵去除等離子室中的污染物,室里面的材料是清潔,消過(guò)毒的,可以進(jìn)行粘接或下一步程序。通過(guò)等離子表面活化改善其潤(rùn)濕性,可改善塑料表面上用油墨進(jìn)行涂漆或印刷的力度。江蘇plasma等離子清洗機(jī)用途
攝像頭模組需在DB前、WB前、HM前、封裝前進(jìn)行真空等離子清洗,活化材料表面,提高親水性和黏附性能。上海大氣等離子清洗機(jī)售后服務(wù)
光刻膠的去除在IC制造工藝流程中占非常重要的地位,其成本約占IC制造工藝的20-30%,光刻膠去膠效果太弱影響生產(chǎn)效率,去膠效果太強(qiáng)容易造成基底損傷,影響整個(gè)產(chǎn)品的成品率。傳統(tǒng)主流去膠方法采用濕法去膠,成本低效率高,但隨著技術(shù)不斷選代更新,越來(lái)越多IC制造商開(kāi)始采用干法式去膠,干法式去膠工藝不同于傳統(tǒng)的濕法式去膠工藝,它不需要浸泡化學(xué)溶劑,也不用烘干,去膠過(guò)程更容易控制,避免過(guò)多算上基底,提高產(chǎn)品成品率。干法式去膠又被稱(chēng)為等離子去膠,其原理同等離子清洗類(lèi)似,主要通過(guò)氧原子核和光刻膠在等離子體環(huán)境中發(fā)生反應(yīng)來(lái)去除光刻膠,由于光刻膠的基本成分是碳?xì)溆袡C(jī)物,在射頻或微波作用下,氧氣電離成氧原子并與光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成一氧化碳,二氧化碳和水等,再通過(guò)泵被真空抽走,完成光刻膠的去除。等離子物理去膠過(guò)程:主要是物理作用對(duì)清洗物件進(jìn)行轟擊達(dá)到去膠的目的,主要的氣體為氧氣、氬氣等,通過(guò)射頻產(chǎn)生氧離子,轟擊清洗物件,以獲得表面光滑的較大化,并且結(jié)果是親水性增大。上海大氣等離子清洗機(jī)售后服務(wù)