CE極間相當(dāng)“短路”,即呈“開”的狀態(tài)。三極管在截止?fàn)顟B(tài)(發(fā)射結(jié)、集電結(jié)都是反偏置)時,其CE極間的電流極小(硅管基本上量不到),相當(dāng)于“斷開(即‘關(guān)’)”的狀態(tài)。三極管開關(guān)電路的特點是開關(guān)速度極快,遠(yuǎn)遠(yuǎn)比機(jī)械開關(guān)快;沒有機(jī)械接點,不產(chǎn)生電火花;開關(guān)的控制靈敏,對控制信號的要求低;導(dǎo)通時開關(guān)的電壓降比機(jī)械開關(guān)大,關(guān)斷時開關(guān)的漏電流比機(jī)械開關(guān)大;不宜直接用于高電壓、強(qiáng)電流的控制。2020-08-30什么是高反壓開關(guān)三極管晶體三極管工作在開關(guān)狀態(tài)時,發(fā)射結(jié)的電壓小于PN結(jié)的導(dǎo)通電壓,基極電流為零,集電極電流和發(fā)射極電流都為零,集電極和發(fā)射極之間相當(dāng)于開關(guān)的斷開狀態(tài),即為三極管的截止?fàn)顟B(tài)。開關(guān)三極管處于截止?fàn)顟B(tài)的特征是發(fā)射結(jié),集電結(jié)均處于反向偏置。此時三極管能夠承受額電壓越高,其被擊穿的可能性越小,工作越可靠,所以在一些特殊電路中必須選用高反壓開關(guān)三極管,例如彩色電視機(jī)的行輸出電路,一般高反壓三極管的耐壓都在1500伏以上。2020-08-30有關(guān)三極管的開關(guān)作用三極管都有開關(guān)作用。普通三極管當(dāng)B極沒有電流時會截止的,但是可控硅(也是一種三極管)卻是只管導(dǎo)通不能控制截止,就是說B極給電流導(dǎo)通之后不能控制EC截止。另一種晶體管,叫做場效應(yīng)管(FET),把輸入電壓的變化轉(zhuǎn)化為輸出電流的變化。云南MOS管制定
此時N型半導(dǎo)體的源極和漏極的負(fù)電子被吸引出來而涌向柵極,但由于氧化膜的阻擋,使得電子聚集在兩個N溝道之間的P型半導(dǎo)體中(見圖b),從而形成電流,使源極和漏極之間導(dǎo)通。我們也可以想像為兩個N型半導(dǎo)體之間為一條溝,柵極電壓的建立相當(dāng)于為它們之間搭了一座橋梁,該橋的大小由柵壓的大小決定。圖給出了P溝道的MOS管。MOS管工作原理圖工作過程,其工作原理類似這里不再重復(fù)。下面簡述一下用C-MOS場效應(yīng)管(增強(qiáng)型MOS管)組成的應(yīng)用電路的工作過程(見圖)。電路將一個增強(qiáng)型P溝道MOS管和一個增強(qiáng)型N溝道MOS場效應(yīng)管組合在一起使用。當(dāng)輸入端為低電平時,P溝道MOS管導(dǎo)通,輸出端與電源正極接通。當(dāng)輸入端為高電平時,N溝道MOS場效應(yīng)管導(dǎo)通,輸出端與電源地接通。在該電路中,P溝道MOS場效應(yīng)管和N溝道MOS場效應(yīng)管總是在相反的狀態(tài)下工作,其相位輸入端和輸出端相反。通過這種工作方式我們可以獲得較大的電流輸出。同時由于漏電流的影響,使得柵壓在還沒有到0V,通常在柵極電壓小于1到2V時,MOS場效應(yīng)管既被關(guān)斷。不同場效應(yīng)管其關(guān)斷電壓略有不同。也正因為如此,使得該電路不會因為兩管同時導(dǎo)通而造成電源短路。云南MOS管制定柵極電壓很低,一般在幾伏到幾十伏之間。
三極管和MOS管的開關(guān)功能哪個略勝一籌我們在做電路設(shè)計中三極管和mos管做開關(guān)用時候有什么區(qū)別工作性質(zhì):1.三極管用電流控制,MOS管屬于電壓控制.2、成本問題:三極管便宜,MOS管貴。3、功耗問題:三極管損耗大。4、驅(qū)動能力:MOS管常用來電源開關(guān),以及大電流地方開關(guān)電路。實際上就是三極管比較便宜,用起來方便,常用在數(shù)字電路開關(guān)控制。MOS管用于高頻高速電路,大電流場合,以及對基極或漏極控制電流比較敏感的地方。一般來說低成本場合,普通應(yīng)用的先考慮用三極管,不行的話考慮MOS管實際上說電流控制慢,電壓控制快這種理解是不對的。要真正理解得了解雙極晶體管和mos晶體管的工作方式才能明白。三極管是靠載流子的運動來工作的,以npn管射極跟隨器為例,當(dāng)基極加不加電壓時,基區(qū)和發(fā)射區(qū)組成的pn結(jié)為阻止多子(基區(qū)為空穴,發(fā)射區(qū)為電子)的擴(kuò)散運動,在此pn結(jié)處會感應(yīng)出2020-08-30三極管的原理,開關(guān)ON和OFF,三個三極管是怎么導(dǎo)通的閉合開關(guān),TR1導(dǎo)通致使TR2截止,使TR3基極電平升高,導(dǎo)通燈亮,斷開開關(guān)時,TR1截止TR2導(dǎo)通,TR3截止燈滅2020-08-30三極管怎樣做開關(guān)三極管在飽和導(dǎo)通(發(fā)射結(jié)和集電結(jié)都是正偏置)時,其CE極間電壓很小,比PN結(jié)的導(dǎo)通電壓還要低(硅管在)。
器件的結(jié)溫等于大環(huán)境溫度加上熱阻與功率耗散的乘積(結(jié)溫=大環(huán)境溫度+[熱阻×功率耗散])。根據(jù)這個式子可解出系統(tǒng)的大功率耗散,即按定義相等于I2×RDS(ON)。我們已將要通過器件的大電流,可以計算出不同溫度下的RDS(ON)。另外,還要做好電路板及其MOS管的散熱。雪崩擊穿是指半導(dǎo)體器件上的反向電壓超過大值,并形成強(qiáng)電場使器件內(nèi)電流增加。晶片尺寸的增加會提高抗雪崩能力,終提高器件的穩(wěn)健性。因此選擇更大的封裝件可以有效防止雪崩。4.選擇MOS管的后一步是決定MOS管的開關(guān)性能。影響開關(guān)性能的參數(shù)有很多,但重要的是柵極/漏極、柵極/源極及漏極/源極電容。這些電容會在器件中產(chǎn)生開關(guān)損耗,因為在每次開關(guān)時都要對它們充電。MOS管的開關(guān)速度因此被降低,器件效率也下降。為計算開關(guān)過程中器件的總損耗,要計算開通過程中的損耗(Eon)和關(guān)閉過程中的損耗(Eoff)。MOSFET開關(guān)的總功率可用如下方程表達(dá):Psw=(Eon+Eoff)×開關(guān)頻率。而柵極電荷(Qgd)對開關(guān)性能的影響大。mos管的驅(qū)動功率很?。?~4w)。
MOS管由多數(shù)載流子參與導(dǎo)電,也稱為單極型晶體管。它屬于電壓控制型半導(dǎo)體器件。具有輸入電阻高(10^7~10^12Ω)、噪聲小、功耗低、動態(tài)范圍大、易于集成、沒有二次擊穿現(xiàn)象、安全工作區(qū)域?qū)挼葍?yōu)點,現(xiàn)已成為雙極型晶體管和功率晶體管的強(qiáng)大競爭者。所有MOS集成電路(包括P溝道MOS,N溝道MOS,互補(bǔ)MOS—CMOS集成電路)都有一層絕緣柵,以防止電壓擊穿。一般器件的絕緣柵氧化層的厚度大約是25nm、50nm、80nm三種。在集成電路高阻抗柵前面還有電阻——二極管網(wǎng)絡(luò)進(jìn)行保護(hù),雖然如此,器件內(nèi)的保護(hù)網(wǎng)絡(luò)還不足以免除對器件的靜電損害(ESD),實驗指出,在高電壓放電時器件會失效,器件也可能為多次較低電壓放電的累積而失效。按損傷的嚴(yán)重程度靜電損害有多種形式,嚴(yán)重的也是容易發(fā)生的是輸入端或輸出端的完全破壞以至于與電源端VDDGND短路或開路,器件完全喪失了原有的功能。稍次一等嚴(yán)重的損害是出現(xiàn)斷續(xù)的失效或者是性能的退化,那就更難察覺。還有一些靜電損害會使泄漏電流增加導(dǎo)致器件性能變壞。MOS管的定義MOS管做為電壓驅(qū)動大電流型器件,在電路尤其是動力系統(tǒng)中大量應(yīng)用,MOS管有一些特性在實際應(yīng)用中是我們應(yīng)該特別注意的MOS管體二極管,又稱寄生二極管。MOSFET金屬-氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管,簡稱金氧半場效晶體管。山東優(yōu)勢MOS管工廠直銷
MOS 管作為半導(dǎo)體領(lǐng)域基礎(chǔ)的器件之一,無論是在 IC 設(shè)計里,還是板級電路應(yīng)用上,都十分廣。云南MOS管制定
首先考察一個更簡單的器件--MOS電容--能更好的理解MOS管。這個器件有兩個電極,一個是金屬,另一個是extrinsicsilicon(外在硅),他們之間由一薄層二氧化硅分隔開。金屬極就是GATE,而半導(dǎo)體端就是backgate或者body。他們之間的絕緣氧化層稱為gatedielectric(柵介質(zhì))。圖示中的器件有一個輕摻雜P型硅做成的backgate。這個MOS電容的電特性能通過把backgate接地,gate接不同的電壓來說明。MOS電容的GATE電位是0V。金屬GATE和半導(dǎo)體BACKGATE在WORKFUNCTION上的差異在電介質(zhì)上產(chǎn)生了一個小電場。在器件中,這個電場使金屬極帶輕微的正電位,P型硅負(fù)電位。這個電場把硅中底層的電子吸引到表面來,它同時把空穴排斥出表面。這個電場太弱了,所以載流子濃度的變化非常小,對器件整體的特性影響也非常小。當(dāng)MOS電容的GATE相對于BACKGATE正偏置時發(fā)生的情況。穿過GATEDIELECTRIC的電場加強(qiáng)了,有更多的電子從襯底被拉了上來。同時,空穴被排斥出表面。隨著GATE電壓的升高,會出現(xiàn)表面的電子比空穴多的情況。由于過剩的電子,硅表層看上去就像N型硅。摻雜極性的反轉(zhuǎn)被稱為inversion,反轉(zhuǎn)的硅層叫做channel。隨著GATE電壓的持續(xù)不斷升高,越來越多的電子在表面積累。云南MOS管制定
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