納米壓印微影技術(shù)有望優(yōu)先導(dǎo)入LCD面板領(lǐng)域原本計劃應(yīng)用在半導(dǎo)體生產(chǎn)制程的納米壓印微影技術(shù)(Nano-ImpLithography；NIL)，現(xiàn)將率先應(yīng)用在液晶顯示器(LCD)制程中。NIL為次世代圖樣形成技術(shù)。據(jù)ETNews報導(dǎo)，南韓顯示器面板企業(yè)LCD制程研發(fā)小組，未確認(rèn)NIL設(shè)備實際圖樣形成能力，直接參訪海外NIL設(shè)備廠。該制程研發(fā)小組透露，若引進(jìn)相關(guān)設(shè)備，將可提升面板性能。并已展開具體供貨協(xié)商。NIL是以刻印圖樣的壓印機(jī)，像蓋章般在玻璃基板上形成圖樣的制程。在基板上涂布UV感光液后，再以壓印機(jī)接觸施加壓力，印出面板圖樣。之后再經(jīng)過蝕刻制程形成圖樣。NIL可在LCD玻璃基板上刻印出偏光圖樣，不需再另外貼附偏光薄膜。雖然在面板制程中需增加NIL、蝕刻制程，但省落偏光膜貼附制程，可維持同樣的生產(chǎn)成本。偏光膜會吸收部分光線降低亮度。若在玻璃基板上直接形成偏光圖樣，將不會發(fā)生降低亮度的情況。通常面板分辨率越高，因配線較多，較難確保開口率(ApertureRatio)。EVG先進(jìn)的多用戶概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到磚家級別的所有需求，因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用程序的理想選擇。內(nèi)蒙古納米壓印圖像傳感器應(yīng)用

EV集團(tuán)和肖特攜手合作，證明300-MM光刻/納米壓印技術(shù)在大體積增強(qiáng)現(xiàn)實/混合現(xiàn)實玻璃制造中已就緒聯(lián)合工作將在EVG的NILPhotonics®能力中心開展，這是一個開放式的光刻/納米壓?。∟IL）技術(shù)創(chuàng)新孵化器，同時也是全球為一可及的300-mm光刻/納米壓印技術(shù)線2019年8月28日，奧地利，圣弗洛里安――微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）、納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場晶圓鍵合與光刻設(shè)備領(lǐng)仙供應(yīng)商EV集團(tuán)（EVG）金日宣布，與特種玻璃和微晶玻璃領(lǐng)域的世界領(lǐng)仙技術(shù)集團(tuán)肖特攜手合作，證明300-mm（12英寸）光刻/納米壓?。∟IL）技術(shù)在下一代增強(qiáng)現(xiàn)實/混合現(xiàn)實（AR/MR）頭戴顯示設(shè)備的波導(dǎo)/光導(dǎo)制造中使用的高折射率（HRI）玻璃晶圓的大體積圖案成形已就緒。此次合作涉及EVG的專有SmartNIL®工藝和SCHOTTRealView?高折射率玻璃晶圓，將在EVG位于奧地利總部的NILPhotonics®能力中心進(jìn)行。肖特將于9月4日至7日在深圳會展中心舉行的中國國際光電博覽會上展示一款采用EVGSmartNIL技術(shù)進(jìn)行圖案成形的300-mmSCHOTTRealView?玻璃晶圓。300-mm和200-mmSCHOTTRealView?玻璃基板，裝配在應(yīng)用SmartNIL®UV-NIL技術(shù)的EVG®HERCULES®。UV納米壓印國內(nèi)代理EVG的SmartNIL技術(shù)是基于紫外線曝光的全場壓印技術(shù)，可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù)。

納米壓印光刻（NIL）-SmartNIL®用于大批量生產(chǎn)的大面積軟UV納米壓印光刻工藝介紹：EVG是納米壓印光刻（NIL）的市場領(lǐng)仙設(shè)備供應(yīng)商。EVG開拓這種非常規(guī)光刻技術(shù)多年，掌握了NIL并已在不斷增長的基板尺寸上實現(xiàn)了批量生產(chǎn)。EVG的專有SmartNIL技術(shù)通過多年的研究，開發(fā)和現(xiàn)場經(jīng)驗進(jìn)行了優(yōu)化，以解決常規(guī)光刻無法滿足的納米圖案要求。SmartNIL可以提供低至40nm或更小的出色的共形烙印結(jié)果。如果要獲得詳細(xì)信息，請聯(lián)系岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司或者訪問官網(wǎng)。

EVG®520HE熱壓印系統(tǒng)特色：經(jīng)通用生產(chǎn)驗證的熱壓印系統(tǒng)，可滿足蕞高要求EVG520HE半自動熱壓印系統(tǒng)設(shè)計用于對熱塑性基材進(jìn)行高精度壓印。EVG的這種經(jīng)過生產(chǎn)驗證的系統(tǒng)可以接受直徑蕞大為200mm的基板，并且與標(biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)兼容。熱壓印系統(tǒng)配置有通用壓花腔室以及高真空和高接觸力功能，并管理適用于熱壓印的整個聚合物范圍。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項，提供了許多用于高質(zhì)量圖案轉(zhuǎn)印和納米分辨率的工藝。如果需要詳細(xì)的信息，請聯(lián)系岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。HERCULES?NIL是完全集成的納米壓印光刻解決方案，可實現(xiàn)300 mm的大批量生產(chǎn)。

”EV集團(tuán)的技術(shù)研發(fā)與IP主管MarkusWimplinger說，“通過與供應(yīng)鏈的關(guān)鍵企業(yè)的合作，例如DELO，我們能夠進(jìn)一步提高效率，作為與工藝和設(shè)備**們一同研究并建立關(guān)鍵的新生產(chǎn)線制造步驟的中心。”“EVG和DELO分別是晶圓級光學(xué)儀器與NIL設(shè)備與光學(xué)材料的技術(shù)與市場領(lǐng)仙企業(yè)。雙方在將技術(shù)與工藝流程應(yīng)用于大規(guī)模生產(chǎn)方面有可靠的經(jīng)驗,”DELO的董事總經(jīng)理RobertSaller說道?！巴ㄟ^合作，我們將提供自己獨特的技術(shù)，將晶圓級工藝技術(shù)應(yīng)用于光學(xué)器件和光電器件制造中，EVG也成為我們蕞新產(chǎn)品開發(fā)的理想合作伙伴。這種合作還將使我們以應(yīng)用**和前列合作伙伴的身份為客戶服務(wù)。"晶圓級光學(xué)元件的應(yīng)用解決方案EVG的晶圓級光學(xué)器件解決方案為移動式消費電子產(chǎn)品提供多種新型的光學(xué)傳感設(shè)備。主要的例子是：3D感應(yīng)，飛行時間，結(jié)構(gòu)光，生物特征身份認(rèn)證，面部識別,虹膜掃描，光學(xué)指紋，頻譜檢測，環(huán)境感應(yīng)與紅外線成像。其它應(yīng)用領(lǐng)域包括汽車照明，光地毯，平視顯示器，車內(nèi)感應(yīng)，激光雷達(dá)，內(nèi)窺鏡照相機(jī)醫(yī)學(xué)成像，眼科設(shè)備與手術(shù)機(jī)器人。EVG的晶圓級光學(xué)儀器解決方案得到公司的NILPhotonics解決方案支援中心的支持。DELO創(chuàng)新的多功能材料幾乎可以在世界上每部手機(jī)上找到。EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù)，擁有多年技術(shù)，掌握了NIL，并在不斷增長的基板尺寸上實現(xiàn)了批量生產(chǎn)。內(nèi)蒙古納米壓印圖像傳感器應(yīng)用

步進(jìn)重復(fù)納米壓印光刻可以從蕞大50mmx50mm的小模具到蕞大300mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。內(nèi)蒙古納米壓印圖像傳感器應(yīng)用

EVG®610紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對準(zhǔn)系統(tǒng)，從碎片到ZUI大150毫米。該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并且可以選擇背面對準(zhǔn)。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準(zhǔn)和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具，以改變用戶需求，光刻和NIL之間的轉(zhuǎn)換時間瑾為幾分鐘。其先進(jìn)的多用戶概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到**級別的所有需求，因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用程序的理想選擇。內(nèi)蒙古納米壓印圖像傳感器應(yīng)用