在科研與工業(yè)制造等眾多領(lǐng)域，光學(xué)儀器如激光干涉儀、光學(xué)顯微鏡、電子顯微鏡等，發(fā)揮著無(wú)可替代的關(guān)鍵作用，而它們對(duì)運(yùn)行環(huán)境的要求極為苛刻，尤其是溫濕度、潔凈度以及抗微震性能。精密環(huán)控柜的出現(xiàn)，為這些精密儀器提供了理想的運(yùn)行環(huán)境。以激光干涉儀為例，其憑借納米級(jí)別的高精度測(cè)量能力，在諸多精密領(lǐng)域不可或缺。但它對(duì)溫度極度敏感，哪怕有 0.01℃的溫度波動(dòng)，由于儀器主體與測(cè)量目標(biāo)熱脹冷縮程度的差異，會(huì)造成測(cè)量基線改變，致使測(cè)量位移結(jié)果出現(xiàn)偏差。精密環(huán)控柜憑借超高精度溫度控制，將溫度波動(dòng)控制在極小范圍，有力保障了激光干涉儀測(cè)量的準(zhǔn)確性。設(shè)備內(nèi)部壓力穩(wěn)定性可達(dá) +/-3Pa。北京恒溫恒濕模擬柜

刻蝕的目的在于去除硅片上不需要的材料，從而雕琢出精細(xì)的電路結(jié)構(gòu)。在這一精細(xì)操作過程中，溫度的波動(dòng)都會(huì)如同“蝴蝶效應(yīng)”般，干擾刻蝕速率的均勻性。當(dāng)溫度不穩(wěn)定時(shí)，硅片不同部位在相同時(shí)間內(nèi)所經(jīng)歷的刻蝕程度將參差不齊，有的地方刻蝕過度，有的地方刻蝕不足，直接破壞芯片的電路完整性，嚴(yán)重影響芯片性能。濕度方面，一旦出現(xiàn)不穩(wěn)定狀況，刻蝕環(huán)境中的水汽會(huì)與刻蝕氣體發(fā)生復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng)，生成一些難以預(yù)料的雜質(zhì)。這些雜質(zhì)可能會(huì)附著在芯片表面，或是嵌入剛剛刻蝕形成的微觀電路結(jié)構(gòu)中，給芯片質(zhì)量埋下深深的隱患，后續(xù)即便經(jīng)過多道清洗工序，也難以徹底根除這些隱患帶來的負(fù)面影響。湖北恒溫恒濕實(shí)驗(yàn)室設(shè)備運(yùn)行穩(wěn)定性高，可連續(xù)穩(wěn)定工作時(shí)間大于144h。

激光干涉儀以其納米級(jí)別的測(cè)量精度，在半導(dǎo)體制造、精密機(jī)械加工等領(lǐng)域發(fā)揮著關(guān)鍵作用。然而，它對(duì)環(huán)境變化極為敏感，溫度、濕度的微小波動(dòng)以及空氣潔凈度的差異，都可能干擾激光的傳播路徑與干涉效果，致使測(cè)量結(jié)果出現(xiàn)偏差。精密環(huán)控柜的超高精度溫度控制，能將溫度波動(dòng)控制在極小區(qū)間，如關(guān)鍵區(qū)域 ±2mK（靜態(tài)），同時(shí)確保濕度穩(wěn)定性可達(dá) ±0.5%@8h，并且實(shí)現(xiàn)百級(jí)以上潔凈度控制，為激光干涉儀提供穩(wěn)定、潔凈的測(cè)量環(huán)境，保障其測(cè)量精度不受外界因素干擾。光譜分析儀用于分析物質(zhì)的光譜特性，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體材料檢測(cè)、化學(xué)分析等領(lǐng)域。在工作時(shí)，外界環(huán)境的不穩(wěn)定可能導(dǎo)致儀器內(nèi)部光學(xué)元件的性能變化，影響光譜的采集與分析精度。精密環(huán)控柜通過調(diào)控溫濕度，避免因溫度變化使光學(xué)元件熱脹冷縮產(chǎn)生變形，以及因濕度異常造成的鏡片霉變、光路散射等問題。其穩(wěn)定的環(huán)境控制能力，保證光譜分析儀能夠準(zhǔn)確、可靠地分析物質(zhì)光譜，為科研與生產(chǎn)提供數(shù)據(jù)支持。

在芯片這一高科技產(chǎn)品的復(fù)雜生產(chǎn)流程里，眾多環(huán)節(jié)對(duì)溫濕度的波動(dòng)展現(xiàn)出了近乎苛刻的精密度要求。光刻過程中，利用高精度的光刻設(shè)備，將預(yù)先設(shè)計(jì)好的復(fù)雜電路圖案轉(zhuǎn)移至硅片表面。溫度的穩(wěn)定性起著決定性作用，哪怕有零點(diǎn)幾攝氏度的微小波動(dòng)，都會(huì)使光刻膠內(nèi)部的化學(xué)反應(yīng)速率產(chǎn)生偏差。光刻膠作為一種對(duì)光敏感的高分子材料，其反應(yīng)速率的改變將直接作用于光刻成像效果，致使圖案邊緣模糊、線條粗細(xì)不均，進(jìn)而讓芯片上的線路出現(xiàn)偏差，甚至引發(fā)短路故障，讓前期投入的大量人力、物力和時(shí)間付諸東流。與此同時(shí)，濕度因素同樣不可小覷。光刻車間若濕度偏高，水汽極易滲透至光刻膠內(nèi)部，使其含水量上升，感光度隨之降低，如同給精密的 “光刻鏡頭” 蒙上一層霧靄，嚴(yán)重影響光刻精度，導(dǎo)致芯片良品率大打折扣，大幅增加生產(chǎn)成本。精密環(huán)控設(shè)備為光刻機(jī)、激光干涉儀等精密測(cè)量、精密制造設(shè)備提供超高精度溫濕度、潔凈度的工作環(huán)境。

我司自主研發(fā)的高精密控溫技術(shù)，控制輸出精度達(dá) 0.1%，能精細(xì)掌控溫度變化。溫度波動(dòng)控制可選 ±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.005℃、±0.002℃等多檔，滿足嚴(yán)苛溫度需求。該系統(tǒng)潔凈度表現(xiàn)優(yōu)異，可達(dá)百級(jí)、十級(jí)、一級(jí)。關(guān)鍵區(qū)域靜態(tài)溫度穩(wěn)定性 ±5mK，內(nèi)部溫度均勻性小于 16mK/m，為芯片研發(fā)等敏感項(xiàng)目營(yíng)造理想溫場(chǎng)，保障實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)不受溫度干擾。濕度方面，8 小時(shí)內(nèi)穩(wěn)定性可達(dá) ±0.5%；壓力穩(wěn)定性為 +/-3Pa，設(shè)備還能連續(xù)穩(wěn)定工作 144 小時(shí)，助力長(zhǎng)時(shí)間實(shí)驗(yàn)與制造。在潔凈度上，工作區(qū)潔凈度優(yōu)于 ISO class3，既確保實(shí)驗(yàn)結(jié)果準(zhǔn)確可靠，又保障精密儀器正常工作與使用壽命，推動(dòng)科研與生產(chǎn)進(jìn)步。為適配不同安裝場(chǎng)景，其運(yùn)用可拆卸鋁合金框架，支持現(xiàn)場(chǎng)靈活組裝。上海恒溫恒濕調(diào)控箱

電子顯微鏡觀測(cè)時(shí)，設(shè)備營(yíng)造的穩(wěn)定環(huán)境，確保成像清晰，助力科研突破。北京恒溫恒濕模擬柜

電子顯微鏡用于觀察微觀世界，其內(nèi)部的電子束對(duì)環(huán)境要求極高。環(huán)境中的塵埃顆粒可能吸附在電子束路徑上的部件表面，影響成像質(zhì)量。精密環(huán)控柜的超高水準(zhǔn)潔凈度控制，將空氣中塵埃過濾干凈，為電子顯微鏡提供超潔凈空間。同時(shí)，其具備的抗微震功能，能有效隔絕外界震動(dòng)干擾，確保電子顯微鏡穩(wěn)定成像，讓科研人員清晰觀察微觀結(jié)構(gòu)。對(duì)于光學(xué)顯微鏡，溫度和濕度變化會(huì)影響鏡片的光學(xué)性能。濕度不穩(wěn)定可能導(dǎo)致鏡片表面產(chǎn)生水汽凝結(jié)，降低光線透過率。精密環(huán)控柜通過溫濕度控制，為光學(xué)顯微鏡提供穩(wěn)定環(huán)境，保證其光學(xué)性能穩(wěn)定，成像清晰。北京恒溫恒濕模擬柜